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고속도금된 3가 크롬도금의 전류효율 및 조직특성에 미치는 첨가제의 영향
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  • 고속도금된 3가 크롬도금의 전류효율 및 조직특성에 미치는 첨가제의 영향
저자명
예길촌,서경훈
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
2004년|37권 2호|pp.92-98 (7 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The current efficiency and the microstructure of the trivalent Cr deposits plated in flow cell system were investigated according to additives in sulfate bath and current density. The current efficiency of the deposits plated in the formic acid complexed bath was noticeably higher than that of the deposits from glycine complexed bath. The current efficiency of the deposits from the complexed baths with boric acid buffer increased linearly with current density in the range of 60-100 A/dm$^2$, while that of the deposits from the baths with both Al sulfate and mixed buffers increased parabolically with current density. The nodular crystallite size of the deposits increased with current density, and the deposits plated in low current density region had relatively smooth surface appearance with fine grains. The structure of the deposits from the complexed baths with boric acid buffer changed from amorphous structure to crystalline one with strong (110)peak with increasing current density. The deposits from the baths with both Al sulfate and mixed buffers had generally amorphous structure.