- 3가 크롬 박막 내의 극미세 결함 측정을 위한 중성자 소각 산란법의 적용
- ㆍ 저자명
- 최용
- ㆍ 간행물명
- 한국표면공학회지
- ㆍ 권/호정보
- 2004년|37권 3호|pp.175-178 (4 pages)
- ㆍ 발행정보
- 한국표면공학회
- ㆍ 파일정보
- 정기간행물| PDF텍스트
- ㆍ 주제분야
- 기타
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The size and number of nano-size defects of thin trivalent chrome layers were determined by small angle neutron scattering (SANS) without breaking the thin chrome layers. Most of defect size of the trivalent chromium prepared in this test conditions is in the range of about 40nm. The number of nano-size defects less than about 40nm of the trivalent chromium layer increases with plating voltage at constant current density From this study, SANS is proved as one of useful techniques to evaluate nano-size defects of thin film layer.