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CMOS 공정에 의한 Suppressed Sidewall Injection Magnetotransistor의 특성
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  • CMOS 공정에 의한 Suppressed Sidewall Injection Magnetotransistor의 특성
저자명
송윤귀,최영식,김남호,류지구,Song. Youn-Gui,Choi. Young-Shig,Kim. Nam-Ho,Ryu. Ji-Goo
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2004년|17권 10호|pp.1029-1033 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this paper, we propose a new Suppressed Sidewall Injection Magnetotransistor(SSIMT) architecture, which allows to overcome the restriction of the standard CMOS technology and achieve high linearity. The proposed SSIMT is designed based on the Hynix 0.6 um standard CMOS technology. The fabricated SSIMT has been experimentally verified. The SSIMT shows that the change of collector current is extremely linear as a function of the magnetic induction at $I_{B}$ =500$mu$A, $V_{CE}$ =2V and VSE =5 V. The relative sensitivity is up to 120 %/T. The magnetic conversion offset is about 79 mT with 30.5 %/T relative sensitivity. The nonlinearity of the fabricated SSIMT is measured about 1.4 %.%.