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무전해 니켈 도금액에서 착화제가 도금피막에 미치는 영향
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  • 무전해 니켈 도금액에서 착화제가 도금피막에 미치는 영향
저자명
전준미,구석본,이홍기,박해덕,심수섭,Jeon. Jun-Mi,Koo. Suck-Bon,Lee. Hong-Kee,Park. Hae-Duck,Shim. Su-Sap
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
2004년|37권 6호|pp.326-334 (9 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|
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주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Deposit charateristics of Electroless nickel(EN) were investigated with various complexing agents. As expected, the deposition rate of nickel is increased with pH and that of Phosphorous is decreased with pH. The result of SEM investigation shows that the rough surface crystallization is appeared with pH. It is show that the surface resistance of EN deposit is decreased with pH at 85$^{circ}C$.