직경 $75{mu}m$ 높이 $90{mu}m$및 $150{mu}m$ 피치의 Cu via를 통한 삼차원 배선구조를 갖는 스택 시편을 deep RIE를 이용한 via hole 형성공정 , 펄스-역펄스 전기도금법에 의한 Cu via filling 공정, CMP를 이용한 Si thinning 공정, photholithography, 금속박막 스퍼터링, 전기도금법에 의한 Cu/Sn 범프 형성공정 및 플립칩 공정을 이용하여 제작하였다. Cu via를 갖는 daisy chain 시편에서 측정한 접속범프 개수에 따른 daisy chain의 저항 그래프의 기울기로부터 Cu/Sn 범프 접속저항과 Cu via 저항을 구하는 것이 가능하였다. $270^{circ}C$에서 2분간 유지하여 플립칩 본딩시 $100{ imes}100{mu}m$크기의 Cu/Sn 범프 접속저항은 6.7 m$Omega$이었으며, 직경 $75 {mu}m$, 높이 $90{mu}m$인 Cu via의 저항은 2.3m$Omega$이었다.
Stack specimen with three dimensional interconnection structure through Cu via of $75{mu}m$ diameter, $90{mu}m$ height and $150{mu}m$ pitch was successfully fabricated using subsequent processes of via hole formation with Deep RIE (reactive ion etching), Cu via filling with pulse-reverse electroplating, Si thinning with CMP, photolithography, metal film sputtering, Cu/Sn bump formation, and flip chip bonding. Contact resistance of Cu/Sn bump and Cu via resistance could be determined ken the slope of the daisy chain resistance vs the number of bump joints of the flip chip specimen containing Cu via. When flip- chip bonded at $270^{circ}C$ for 2 minutes, the contact resistance of the Cu/Sn bump joints of $100{ imes}100{mu}m$ size was 6.7m$Omega$ and the Cu via resistance of $75{mu}m$ diameter, $90{mu}m$ height was 2.3m$Omega$.
