본 연구는 이성분계의 화학종 모델링과 삼성분계의 흡착 모델링으로부터 As(III)와 As(V)의 적철석 표면 흡착에 휴 믹산의 영향과 그 결합기작을 고찰하였다. 비소와 휴믹산의 유기 결합의 모델링은 음이온 사이의 정전기적인 반발력 과 비소의 유기 결합을 위한 결합금속의 영향을 고려한 결합 모델이 적합하였다. 삼성분계의 흡착 실험 자료와 비교 할 때 이성분계의 고유상수를 사용한 음이온 경쟁 모델이 음이온 경쟁에 따른 비소의 흡착량과 일치하였다. 반면, 비 소의 유기 결합량의 감소와 휴믹산과의 음이온 흡착경쟁이 흡착량을 감소시키기 때문에 단순합모델은 양이온 중금속 과는 반대로 모델의 편차를 보였다. 반응 기작의 관점에서 휴믹산의 공존하에 비소 유기결합 화학종과 중성화학종의 As(III) 및 음이온의 As(V)가 속착물을 형성하며, 경쟁적으로 적철석 표면으로 이동하여 흡착하게 된다.
This study was performed to investigate the effect of humic acid on the adsorption of arsenic onto hematite and its binding mechanism through the chemical speciation modeling in the binary system and the adsorption modeling in the ternary system. The complexation modeling of arsenic and humic acid was suitable for the binding model with the basis of the electrostatic repulsion and the effect of bridging metal. In comparison with the experimental adsorption data in the ternary system, the competitive adsorption model from the binary intrinsic equilibrium constants was consistent with the amount of arsenic adsorption. However, the additive rule showed the deviation of model in the opposite way of cationic heavy metals, because the reduced organic complexation of arsenic and the enhanced oxyanionic competition diminished the adsorption of arsenic. In terms of the reaction mechanism, the organic complex of arsenic, neutral As(III) and oxyanionic As(V) species were transported and adsorbed competitively to the hematite surface forming the inner-sphere complex in the presence of humic acid.
