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Deposition of $(Ti,Cr)N-MoS_2$ Thin Films by D.C Magnetron Sputtering
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  • Deposition of $(Ti,Cr)N-MoS_2$ Thin Films by D.C Magnetron Sputtering
  • Deposition of $(Ti,Cr)N-MoS_2$ Thin Films by D.C Magnetron Sputtering
저자명
Kim. S.K.,Kim. J.H.
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
2006년|39권 2호|pp.70-75 (6 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

As technology advances, there is a demand for development of hard, solid lubricant coating. (Ti,Cr)N-$MoS_2$, films were deposited on SKD 11 tool steel substrate by co-deposition of $MoS_2$, with (Ti,Cr)N using a D.C. magnetron sputtering process. The influence of the $N_2/Ar$ gas ratio, the deposition temperature, the amount of $MoS_2$ in the films, and the bias voltage on the mechanical and the structural properties of the films were investigated. Wear tests were performed on the films deposited in various conditions.