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AISI 420 stainless steel 기판위에 D.C magnetron sputtering 법으로 제조한 TiN 박막의 특성 평가
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  • AISI 420 stainless steel 기판위에 D.C magnetron sputtering 법으로 제조한 TiN 박막의 특성 평가
저자명
송승우,최한철,김영만,Song. Seung-Woo,Choe. Han-Cheol,Kim. Young-Man
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
2006년|39권 5호|pp.199-205 (7 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
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주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Titanium nitride (TiN) coatings were produced on AISI 420 stainless steel by DC magnetron sputtering of a Ti target changing the processing variables, such as the flow rate of $N_2/Ar$, substrate temperature and the existence of Ti interlayer between TiN coatings and substrates. The hardness and residual stress in the films were investigated using nanoindentation and a laser scanning device, respectively. The stoichiometry and surface morphology were investigated using X-Ray Diffraction and SEM. The corrosion property of the films was also studied using a polarization method in NaCl (0.9%) solution. Mechanical properties including hardness and residual stress were related to the ratio of $N_2/Ar$ flow rate. The corrosion resistance also was related to the processing variables.