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분무열분해법에 의하여 제조한 FTO 투명전도막의 F/Sn 비율에 따른 전기, 광학적 특성과 XPS 분석
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  • 분무열분해법에 의하여 제조한 FTO 투명전도막의 F/Sn 비율에 따른 전기, 광학적 특성과 XPS 분석
저자명
송철규,김창열,허승헌,류도형,좌용호,Song. Chul-Kyu,Kim. Chang-Yeoul,Huh. Seung-Hun,Riut. Doh-Hyung,Choa. Yong-Ho
간행물명
한국재료학회지
권/호정보
2007년|17권 7호|pp.376-381 (6 pages)
발행정보
한국재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Fluorine-doped tin oxide (FTO) thin film was coated on aluminosilicate glass at $450^{circ}C$ by spray pyrolysis method. In the range of 0-2.7 molar ratio of F/Sn, the variations of electrical conductivity and visible light transmission were investigated. At the F/Sn ratio of 1.765, the film showed the lowest electrical resistivity value of $3.0{ imes}10^{-4}{Omega};cm$, the highest carrier concentration of $2.404{ imes}10^{21}/cm^3$, and about $8;cm^2/V{cdot}sec$ of electronic mobility. The FTO film showed a preferred orientation of (200) plane parallel to the substrate. X-ray photoelectron spectroscopy analysis results indicated that the contents of $Sn^{4+}-O$ bonding are the highest at 1.765 of F/Sn molar ratio.