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355nm UV 레이저를 이용한 AZ5214와 SU-8 포토레지스트 어블레이션에 관한 연구
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  • 355nm UV 레이저를 이용한 AZ5214와 SU-8 포토레지스트 어블레이션에 관한 연구
  • A Study on the Ablation of AZ5214 and SU-8 Photoresist Processed by 355nm UV Laser
저자명
오재용,신보성,김호상,Oh. J.Y.,Shin. B.S.,Kim. H.S.
간행물명
한국레이저가공학회지
권/호정보
2007년|10권 2호|pp.17-24 (8 pages)
발행정보
한국레이저가공학회
파일정보
정기간행물|
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주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We have studied a laser direct writing lithography(LDWL). This is more important to apply to micro patterning using UV laser. We demonstrate the possibility of LDWL and construct the fabrication system. We use Galvano scanner to process quickly micro patterns from computer data. And laser beam is focused with $F-{ heta}$ lens. AZ5214 and SU-8 photoresist are chosen as experimental materials and a kind of well-known positive and negative photoresist respectively. Laser ablation mechanism depends on the optical properties of polymer. In this paper, therefore we investigate the phenomenon of laser ablation according to the laser fluence variation and measure the shape profile of micro patterned holes. From these experimental results, we show that LDWL is very useful to process various micro patterns directly.