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B, Al, Ga, In의 도핑물질이 투명 전도성 ZnO 박막의 특성에 미치는 영향
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  • B, Al, Ga, In의 도핑물질이 투명 전도성 ZnO 박막의 특성에 미치는 영향
저자명
노영우,조종래,손세모,정수태,No. Young-Woo,Cho. Jong-Rae,Son. Se-Mo,Chung. Su-Tae
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2008년|21권 3호|pp.242-248 (7 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The structural, optical and electrical properties of ZnO films doped with 1.5 at% of 3A materials(B, Al, Ga, In) were studied by sol-gel process. The films were found to be c-axis (002) oriented hexagonal structure on glass substrate, when post heated at 500 $^{circ}C$. The surface of the films showed a uniform and nano size microstructure and the crystalline size of doped films decreased. The lattice constants of ZnO:B/Al/Ga increased than that of ZnO, while ZnO:In decreased. All the films were highly transparent(above 90 %) in the visible region. The energy gaps of ZnO:B/Al/Ga were increased a little, but that of ZnO:In was not changed. The resistivities of ZnO:Al/Ga/In were less than 0.1 $Omega$cm. All the films showed a semiconductor properties in the light or temperature, however ZnO:In was less sensitive to it. A figure of merit of ZnO:In had the highest value of 0.025 $Omega^{-1}$ in all samples.