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광조형 공정시 휨에 의한 변형을 개선하기 위한 역설계 시스템의 적용
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  • 광조형 공정시 휨에 의한 변형을 개선하기 위한 역설계 시스템의 적용
  • Application of Reverse Engineering System for Improvement of Curl Distortion in Stereolithography Process
저자명
제우성,Che. Woo-Seong
간행물명
반도체및디스플레이장비학회지
권/호정보
2009년|8권 4호|pp.7-13 (7 pages)
발행정보
한국반도체및디스플레이장비학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The slender device(long length and thin width) manufactured by stereolithography process suffers from large curl distortion. This paper adapts two control parameters such as a critical exposure and a penetration depth. The measurement of the test parts dimension are carried out by reverse engineering method with the optical 3-dimensional measurement equipment. We investigate how each parameter contributes to the part accuracy and estimates the optimal set of parameters which minimizes the dimensional error of the test parts. Finally, As being an the RAM slot as being an example of the slender device, the RAM slot is made with the optimal values of control parameter and the results are investigated