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40 Gb/s Traveling-Wave Electroabsorption Modulator-Integrated DFB Lasers Fabricated Using Selective Area Growth
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  • 40 Gb/s Traveling-Wave Electroabsorption Modulator-Integrated DFB Lasers Fabricated Using Selective Area Growth
  • 40 Gb/s Traveling-Wave Electroabsorption Modulator-Integrated DFB Lasers Fabricated Using Selective Area Growth
저자명
Kwon. Yong-Hwan,Choe. Joong-Seon,Sim. Jae-Sik,Kim. Sung-Bock,Yun. Ho-Gyeong,Choi. Kwang-Seong,Choi. Byung-Seok,Nam. Eun-Soo
간행물명
ETRI journal
권/호정보
2009년|31권 6호|pp.765-769 (5 pages)
발행정보
한국전자통신연구원
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this paper, we present the fabrication of 40 Gb/s traveling-wave electroabsorption modulator-integrated laser (TW-EML) modules. A selective area growth method is first employed in 40 Gb/s EML fabrication to simultaneously provide active layers for lasers and modulators. The 3 dB bandwidth of a TW-EML module is measured to be 34 GHz, which is wider than that of a lumped EML module. The 40 Gb/s non-return-to-zero eye diagram shows clear openings with an average output power of +0.5 dBm.