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기공성 알루미나 산화 피막을 이용한 나노 금속화합물의 제조
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  • 기공성 알루미나 산화 피막을 이용한 나노 금속화합물의 제조
저자명
오한준,정용수,지충수,Oh. Han-Jun,Jeong. Yong-Soo,Chi. Choong-Soo
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
2010년|43권 5호|pp.248-254 (7 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Porous $Al_2O_3$ film can be utilized as template for fabrication of nano-structured materials. Porous anodic alumina layer as template was prepared by anodization of aluminum in oxalic acid, and the pore diameter and barrier-type alumina layer can be controlled for proper anodizing parameter by widening process in $H_3PO_4$ solution. The $SiO_2$ nanodot and Ni nanowire was fabricated using anodic alumina template and their characteristics were investigated using SEM and TEM with EDS. Especially the growth mechanism of $SiO_2$ nanodot in alumina membrane compared with thinning of the alumina barrier layer during anodization was also investigated.