Photolithography 통합 시대의 끝이 빠르게 다가옴에 따라, 최근에는 새로운 나노 스케일의 소재와 집적 방식에 기반을 둔 수많은 나노 스케일 장치와 시스템이 나타나고 있다. 특히 nanowire crossbar 구조를 이용한 다양한 reconfigurable architecture 들이 보고되고 있다. 하지만 아쉽게도 나노 스케일의 구성 요소를 이용한 이러한 고집적 시스템은 생산 단계에서 발생하는 각종 물리적 결함과 오차에 취약하며 따라서 결함에 대한 관용성 즉 defecttolerance는 nanowire reconfigurable crossbar 시스템에 있어 해결해야 할 가장 중대한 문제 중 하나라 할 수 있다. 이에 본 논문에서는 nanowire reconfigurable crossbar 시스템 상에서 사용되어질 수 있는 세 가지의 결함 회피형(defectavoidant) 로직 재할당 알고리듬을 설명하고 다양한 방식으로 평가하였다. 이에 더불어 로직 재할당시에 발생하는 비용과 이로 인해 얻어지는 repair performance를 계량적으로 상호 분석하여 최적화된 repair 방식을 찾아내는 새로운 방안을 소개하였다. 이어 다양한 파라메터들을 이용한 시뮬레이션 결과를 제시함으로써 새로 소개된 cost-driven repair 최적화 방식을 검증하였다.
As the end of photolithographic integration era is approaching fast, numerous nanoscale devices and systems based on novel nanoscale materials and assembly techniques are recently emerging. Notably, various reconfigurable architectures with considerable promise have been proposed based on nanowire crossbar structure as the primitive building block. Unfortunately, high-density sys-tems consisting of nanometer-scale elements are likely to have numerous physical imperfections and variations. Therefore, defect-tolerance is considered as one of the most exigent challenges in nanowire crossbar systems. In this work, three different defect-avoidant logic mapping algorithms to circumvent defective crosspoints in nanowire reconfigurable crossbar systems are evaluated in terms of various performance metrics. Then, a novel method to find the most cost-effective repair solution is demonstrated by considering all major repair parameters and quantitatively estimating the performance and cost-effectiveness of each algorithm. Extensive parametric simulation results are reported to compare overall repair costs of the repair algorithms under consideration and to validate the cost-driven repair optimization technique.
