본 연구는 초슬림의 광학 시스템에 적용 가능한 서브 미크론의 패턴으로 구성된 고효율 회절 렌즈의 금형을 가공하는 방법에 관한 것이다. 서브미크론의 패턴으로 구성된 고효율 회절 렌즈를 가공하기 위해 분해능이 뛰어난 전자빔 노광장치와 고속 원자 빔 플라즈마 에칭 공정을 바탕으로 다중 정렬방식을 이용하였다. 다중 정렬 방식을 이용하여 고효율 회절 렌즈를 가공 하기 위해서는 정렬 오차, 노광 오차 그리고 에칭 오차를 최소화 해야만 한다. 본 연구에서는 이 주요한 세 가지 가공 오차를 최소화 하였으며, 이를 바탕으로 지름 $267;{mu}m$ (NA=0.25), 최소 선 폭 226 nm, 렌즈 두께 819 nm 를 가지는 고효율 회절 렌즈 가공을 실현 하였다.
In this paper, we present the fabrication of a high-quality diffractive-lens mold having submicron patterns, which is suitable for an ultra-slim optical system. In order to fabricate high-quality diffractive lens with a variety of submicron patterns, the multi-alignment method was used; high-resolution electron-beam lithography and FAB plasma etching were carried out to obtain the patterns. The most important key technology in the multi-alignment method is to reduce alignment error, lithography error, and etching error. In this paper, these major fabrication errors were minimized, and a high-quality diffractive lens with a diameter of $267;{mu}m$ (NA = 0.25), minimum pattern width of 226 nm, and thickness of 819 nm was successfully fabricated.
