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펨토초 레이저를 이용한 실리카 내부의 다층 회절격자 가공 기술
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  • 펨토초 레이저를 이용한 실리카 내부의 다층 회절격자 가공 기술
저자명
최훈국,김진태,손익부,노영철,Choi. Hun-Kook,Kim. Jin-Tae,Sohn. Ik-Bu,Noh. Young-Chul
간행물명
한국레이저가공학회지
권/호정보
2011년|14권 3호|pp.17-20 (4 pages)
발행정보
한국레이저가공학회
파일정보
정기간행물|
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주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We fabricated a multi-layer diffraction grating inside fused silica glass by using a femtosecond laser direct writing method. The femtosecond laser with a wavelength of 515 nm, a pulse width of 250 fs, a repetition rate of 100 kHz, and an average output power of 6 W was used. Two layer diffraction grating with a grating period of $6{mu}m$ was successfully fabricated with the layer gap of 0.5, 1, 2, 3, and $5{mu}m$, respectively. Also, we investigated the diffraction pattern by illuminating a He-Ne laser beam. Finally, we demonstrated the diffraction grating with a grating period of $3{mu}m$ by adjusting the gap of each layer with a grating period of $6{mu}m$. Femtosecond laser direct writing technology of multi-layer has a potential to fabricate the diffraction grating with a grating period of below $1.5{mu}m$.