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Ag의 두께에 따른 비정질 As-Ge-Se-S의 홀로그래픽 특성연구
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  • Ag의 두께에 따른 비정질 As-Ge-Se-S의 홀로그래픽 특성연구
저자명
김충혁,Kim. Chung-Hyeok
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2012년|25권 3호|pp.213-217 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this study, we have investigated the holographic grating formation on Ag-doped amorphous As-Ge-Se-S thin films. The dependence of diffraction efficiency as afunction of Ag layer thickness has been investigated in this amorphous chalcogenide films. Holographic gratings was formed using [P:P] polarized Diode Pumped Solid State laser (DPSS, 532.0 nm). The diffraction efficiency was obtained by +1st order intensity. The results were shown that the diffraction efficiency of Ag/AsGeSeS double layer thin films for the Ag thickness, the maximum grating diffraction efficiency using 60 nm Ag layer is 0.96%.