본 논문에서는 고효율 고출력 DUV(Deep Ultra Violet)-LED(Light Emitting Diodes)의 구현을 위하여 n-side에서 p-side로 well 두께를 다르게 형성하는 비대칭 MQW 에피구조를 제안하였다. 제안된 구조의 물리적 해석을 위해 상용화된 3차원 시뮬레이터 SimuLEDTM을 이용하여 소자의 전기적/광학적 특성을 비교 분석 하였다. 시뮬레이션 결과, 본 연구에서 제안한 B구조(n-side에서 p-side 방향으로 well 두께를 2 nm, 3 nm, 4 nm 로 제작)의 에피층을 가지는 UV-LED는 기본 MQW 에피구조를 가지는 UV-LED와 동작전압은 8.9 V로 동일한 값을 가졌지만 광출력은 기본구조의 10.6 mW 에 비해 약 1.17배 향상된 12.4 mW의 값을 가지는 것을 확인하였다.
In this work, we proposed the asymmetric MQW structure with gradually increased or decreased well thickness from n-layers to p-layers in order to improve the performance of DUV-LEDs. We report the simulation results of electrical/optical characteristics by using the SimuLED program. From the simulation results, we found that B structure with thickness of the wells gradually increased from the n-side to the p-side has the same forward voltage(Vf) as standard structure, but the light output power (Pout) was improved by a factor of 1.17 at 20mA compared with those of the standard structure.
