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동시진공증발법을 이용한 Cu(In,Ga)Se2 박막 제작에 관한 연구
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  • 동시진공증발법을 이용한 Cu(In,Ga)Se2 박막 제작에 관한 연구
저자명
박정철,추순남,Park. Jung-Cheul,Chu. Soon-Nam
간행물명
한국정보통신학회논문지
권/호정보
2012년|16권 10호|pp.2273-2279 (7 pages)
발행정보
한국정보통신학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

동시진공증발법(co-evaporation)으로 Cu(In,Ga)$Se_2$ 박막을 제작하는 논문으로서 1단계($1^{st}$-stage)에서 기판온도(substrate temperature)가 $400^{circ}C$에서 $In_2Se_3$상($In_2Se_3$ phase)이 존재하였으며 2,3단계($2^{nd}$-stage, $3^{rd}$-stage)에서 기판온도 변화에 따른 흡수 스펙트럼(absorbency spectrum)은 차이가 크지 않다. 이것은 박막의 두께가 전부 $1{mu}m$ 이상이므로 흡수 스펙트럼(absorbency spectrum)은 거의 차이가 없다. 2,3단계에서 기판온도 변화에 따른 SEM과 XRD를 분석한 결과, 기판온도가 증가할수록 결정구조(crystal structure)의 밀도(density)가 증가하고 기공(vacancy)이 감소하며 $480^{circ}C$, $500^{circ}C$에서 Cu(In0.7Ga0.3)$Se_2$상(${mu}m$)이 형성되었다.

기타언어초록

This research is based on fabricating Cu(In,Ga)$Se_2$ thin-film by co-evaporation method. On $1^{st}$ - stage, $In_2Se_3$ phase appeared when the substrate temperature reached to $400^{circ}C$, however, there was small effect between the substrate temperature and absorbency spectrum on $2^{nd}$, $3^{rd}$ - stage because the average thickness of the thin-film was $1{mu}m$ or higher. SEM and XRD was measured on $2^{nd}$ and $3^{rd}$ stage and it showed as the substrate temperature increases, the density of the crystal structure increased with the decreament of the vacancy. Furthermore, the formation of Cu(In0.7Ga0.3)$Se_2$ phase showed at $480^{circ}C$ and $500^{circ}C$.