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한중 FTA시대, 기업의 중국진출과 지식재산
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  • 한중 FTA시대, 기업의 중국진출과 지식재산
저자명
이헌희,Lee. Heon-Hui
간행물명
發明特許
권/호정보
2012년|37권 9호|pp.38-43 (6 pages)
발행정보
한국발명진흥회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

앞으로 체결될 한중FTA에서 지재관련 분야의 협상을 통해서 제도적 조화가 원활히 이루어지지 않을 경우 제도의 부지 혹은 상이함으로 인해 우리 기업이 곤란을 겪지 않을까하는 걱정을 하게 된다. 중국과 우리나라는 비슷하면서도 다른 지식재산제도를 가지고 있기 때문에, 이에 대한 사전준비를 하지 않는다면 불측의 손해를 입을 수 있기에 특허 상표 및 디자인 관련 제도를 중심으로 양국 간 제도적 차이를 간단히 살펴보고자 한다.