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전력증폭기용 SiC 기반 GaN TR 소자 제작
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  • 전력증폭기용 SiC 기반 GaN TR 소자 제작
저자명
김상일,임병옥,최길웅,이복형,김형주,김륜휘,임기식,이정희,이정수,이종민,Kim. Sang-Il,Lim. Byeong-Ok,Choi. Gil-Wong,Lee. Bok-Hyung,Kim. Hyoung-Joo,Kim. Ryun-Hwi,
간행물명
韓國電磁波學會論文誌
권/호정보
2013년|24권 2호|pp.128-135 (8 pages)
발행정보
한국전자파학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

본 논문에서는 Si가 도핑된 Modulation-doped AlGaN/GaN 이종 접합 구조를 가지는 전력증폭기용 MISHFET 소자를 제작하였다. 제작된 GaN TR 소자는 6H-SiC(0001)의 Substrate 위에 성장시켰으며, 180 nm의 gate length를 가진다. 제작된 소자를 측정한 결과, 837 mA/mm의 최대 드레인 전류 특성, 177 mS/mm의 $g_m$(Tranconductance)을 가지며, $f_T$는 45.6 GHz, $f_{MAX}$는 46.5 GHz로 9.3 GHz에서 1.54 W/mm의 전력 밀도와 40.24 %의 PAE를 가지는 것으로 확인되었다.

기타언어초록

This letter presents the MISHFET with si-doped AlGaN/GaN heterostructure for power amplifier. The device grown on 6H-SiC(0001) substrate with a gate length of 180 nm has been fabricated. The fabricated device exhibited maximum drain current density of 837 mA/mm and peak transconductance of 177 mS/mm. A unity current gain cutoff frequency was 45.6 GHz and maximum frequency of oscillation was 46.5 GHz. The reported output power density was 1.54 W/mm and A PAE(Power Added Efficiency) was 40.24 % at 9.3 GHz.