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An Accurate Gate-level Stress Estimation for NBTI
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  • An Accurate Gate-level Stress Estimation for NBTI
  • An Accurate Gate-level Stress Estimation for NBTI
저자명
Han. Sangwoo,Lee. Junho,Kim. Byung-Su,Kim. Juho
간행물명
Journal of semiconductor technology and science
권/호정보
2013년|13권 2호|pp.139-144 (6 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Negative bias temperature instability (NBTI) has become a major factor determining circuit reliability. The effect of the NBTI on the circuit performance depends on the duty cycle which represents the stress and recovery conditions of each device in a circuit. In this paper, we propose an analytical model to perform more accurate duty cycle estimation at the gate-level. The proposed model allows accurate (average error rate: 3%) computation of the duty cycle without the need for expensive transistor-level simulations Furthermore, our model estimates the waveforms at each node, allowing various aging effects to be applied for a reliable gate-level circuit aging analysis framework.