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N-doped ZnO 박막의 미세 구조 특성
이은주, 박재돈, 윤기완, Lee. Eun-Ju, Park. Jae-Don, Yoon. Gi-Wan 한국해양정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 6 Pages
한국해양정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 2009, Vol.13 No.11 2385-2390 (6 pages)
본 연구에서는 C-축 우선 배향 특성을 가지는 N-doped ZnO 박막을 증착하고 그 미세구조의 특성을 분석 비교하였다. ZnO박막은 $N_2O$ 가스 분위기에서 RF reactive magnetron sputtering 시스템을 사용하여 p-Si(100) 웨이퍼 위에 증착되었다. $N_2O$ 가스는 N doping source로 사용되었으며, 전체 가스 유량에 대한 $N_2O$ 가스의 비율 $N_2O/(N_2O+Ar)$과 증착 전력을 증착의 주요 공정 변수로 선택하여 다양한 가스 비율과 증착 전력에 대한 박막의 미세 구조 특성을 비교 분석하였다. 특히, Auger electron spectroscopy (AES)를... -
RF Sputtering 법으로 제작한 강유전체 메모리의 하부전극용$RuO_2$ 박막의 특성에 관한 연구
강성준, 정양희 한국해양정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 8 Pages
한국해양정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 2000, Vol.4 No.5 1127-1134 (8 pages)
RF magnetron reactive sputtering 법으로 $RuO_2$ 박막을 제작하여, O2/(Ar+O2) 비와 기판온도에 따른 박막의 결정화 특성, 미세구조, 표면거칠기, 전기적 비저항을 조사하였다. O2/(Ar+O2) 비가 감소하고 기판온도가 증가함에 따라 $RuO_2$ 박막은 (110) 면에서 (101) 면으로 우선배향방향이 변하였다. O2/(Ar+O2) 비가20% 에서 50% 로 증가함에 따라, $RuO_2$박막의 표면거칠기는 2.38nm 에서 7.81nm로, 비저항은 $103.6 muOmega-cm; 에서; 227 muOmega-cm$로 증가하는 추세를 나타내는 반면에, 증착속도는 47nm/min에서 17nm/min 로... -
A Feasibility Study of Nano-grained ZnO Piezoelectric Thin Film Fabrication
Zhang. Ruirui, Lee. Eun-Ju, Yoon. Gi-Wan 한국해양정보통신학회 International journal of maritime information and communication sciences 5 Pages
한국해양정보통신학회 International journal of maritime information and communication sciences 2009, Vol.7 No.4 530-534 (5 pages)
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기판 바이어스 DC 전원의 종류와 반응가스 분압비가 3성분계 B-C-N 코팅막의 합성과 마찰 특성에 미치는 영향
정다운, 김두인, 김광호, Jeong. Da-Woon, Kim. Doo-In, Kim. Kwang-Ho 한국표면공학회 한국표면공학회지 8 Pages
한국표면공학회 한국표면공학회지 2011, Vol.44 No.2 60-67 (8 pages)
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Fe-Hf-N 연자성 박막의 자기적 특성에 미치는 박막 두께의 영향
최종운, 강계명, Choi. Jong-Won, Kang. Kae-Myung 한국표면공학회 한국표면공학회지 5 Pages
한국표면공학회 한국표면공학회지 2011, Vol.44 No.6 255-259 (5 pages)
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Ti-30Ta-xZr 합금의 표면에 TiN/Ti 다층막코팅효과
김영운, 정용훈, 조주영, 최한철, 방몽숙, Kim. Y.U., Jeong. Y.H., Cho. J.Y., Choe. H.C., Vang. M.S. 한국표면공학회 한국표면공학회지 8 Pages
한국표면공학회 한국표면공학회지 2009, Vol.42 No.4 161-168 (8 pages)
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유도결합 플라즈마-마그네트론 스퍼터링 방법을 이용한 저온 폴리실리콘 제조
유근철, 박보환, 주정훈, 이정중 한국표면공학회 한국표면공학회지 5 Pages
한국표면공학회 한국표면공학회지 2004, Vol.37 No.3 164-168 (5 pages)
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RF 마그네트론 스퍼터링법으로 제작된 Ga-doped ZnO 박막의 공정압력에 따른 전기적, 광학적 특성
정성진, 김덕규, 김홍배, Jeong. Seong-Jin, Kim. Deok-Kyu, Kim. Hong-Bae 한국진공학회 韓國眞空學會誌 5 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2012, Vol.21 No.1 17-21 (5 pages)
투명전도산화막인 Ga-도핑된 ZnO (GZO) 박막을 RF 마그네트론 스퍼터링 증착법을 이용하여 증착하고 전기적, 광학적 특성을 연구하였다. 증착변수로 공정압력에 변수를 주었으며 공정 압력 변화에 따라 전기적 특성과 광학적 특성이 달라짐을 확인할 수 있었다. 모든 박막은 공정압력에 상관없이 c-축(002) 방향성을 나타냈다. 증착된 GZO 박막의 전기저항성은 $8.68{ imes}10^{-3}{Omega}{cdot}cmsim2.18{ imes}10^{-3}{Omega}{cdot}cm$이었고, 모든 가시광 영역에서 90% 이상의 평균 투과율을 보였다. 공정압력에 따라 상온에서 증착된... -
RF UBM Sputtering에 의해 증착된 hBN 박막의 미세구조가 cBN 상의 핵형성에 미치는 영향
이은옥, 박종극, 임대순, 백영준, Lee. Eun-Ok, Park. Jong-Keuk, Lim. Dae-Soon, Baik. Young-Joon 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2004, Vol.13 No.4 150-156 (7 pages)
Si(100) 기판 위에 RF UBM 스퍼터링 (Unbalanced Magnetron Sputtering) 방법을 이용하여 BN 박막을 증착하였다. 이온 충돌 에너지에 영향을 주는 증착 압력과 기판 바이어스 전압을 변화시켜, 증착된 BN박막의 미세구조와 압축응력의 변화를 살펴보았다. 높은 증착 압력에서는 hBN laminate의 정렬도가 기판 바이어스 전압이 증가함에 따라 선형적으로 증가한 반면, 낮은 증착 압력에서는 낮은 기판 바이어스 전압에서 hBN laminate의 정렬도가 높게 나타났다. hBN 박막의 응력 변화와 표면 형상은 hBN laminate의 정렬도와 밀접한... -
ULSI 확산억제막으로 적합한 Ti-Si-N의 조성 범위에 관한 연구
박상기, 강봉주, 양희정, 이원희, 이은구, 김희재, 이재갑 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2001, Vol.10 No.3 321-327 (7 pages)
Radio frequency magnetron sputtering방법으로 타켈의 Ti/si 조성과 $N_2$ 유량을 변화시켜 증착한 다양한 조성비의 Ti-Si-N 박막의 비저항 변화와 확산방지능력을 조사하였다. 높은 Si 함량을 포함한 Ti-Si-N박막내의 Si은 주로 비정질의 $Si_3N_4$ 형태로 존재하였으며 $N_2$의 양이 증가함에 따라 비저항도 증가하였다. 반면, 낮은 Si 함량을 포함한 Ti-Si-N박막은 낮은 $N_2$ 유량에서도 결정질의 TiN이 형성되었고 낮은 비저항을 나타내었다. 또한, 박막내의 N의 양이 증가함에 따라, 높은 박막의 밀도와 압축응력을 갖는 Ti-Si-N이...