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PL Property of Al-N Codoped p-type ZnO Thin Films Fabricated by DC Magnetron Sputtering
Liu. Yan-Yan, Jin. Hu-Jie, Park. Choon-Bae, Hoang. Geun-C. 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2009, Vol.10 No.3 89-92 (4 pages)
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Analysis of Photoluminescence for N-doped and undoped p-type ZnO Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering Method
Liu. Yan-Yan, Jin. Hu-Jie, Park. Choon-Bae, Hoang. Geun C. 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2009, Vol.10 No.1 24-27 (4 pages)
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Effect of Annealing on a-Si:H Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering
김도윤, 김인수, 최세영, Kim. Do-Yun, Kim. In-Soo, Choi. Se-Young 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2009, Vol.19 No.2 102-107 (6 pages)
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Magnetron sputtering 법으로 제조된 Al-1%Cu/Tungsten Nitride 다층 박막
이기선, 김장현, 서수정, 김남철, Lee. Gi-Seon, Kim. Jang-Hyeon, Seo. Su-Jeong, Kim. Nam-Cheol 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2000, Vol.10 No.9 624-628 (5 pages)
표면 탄성과 디바이스의 전극재료로 사용되는 Al-%Cu(4000$AA$)/tungsten nitride 박막을 magnetron sputtering 법으로 제조하고 전기저항을 평가한 비정질상의 tungsten nitride 박막을 제조할 수 있었고, 비정질 형성을 위해 질소비(R =$N_2$/(Ar+$N_2$)가 10~40% 정도 필요하다. Tungsten nitride 박막의 잔류응력은 비정질이 형성되면서 급격히 감소되었다. 이러한 비정질 박막위에 Al-1%Cu 합금막이 형성되었다. 다층막은 453K에서 4시간 동안 열처리함으로써 $3.6{mu}{Omega}-cm$의 저항을 나타냈는데, 이는 박막내 결정립 성장과... -
DC Reactive Magnetron Sputtering법에 의한 Ti-Al-V-N 박막의 성장거동
손용운, 정인화, 이영기, Sohn. Yong-Un, Chung. In-Wha, Lee. Young-Ki 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1999, Vol.9 No.7 688-694 (7 pages)
Ti-6Al-4V 합금을 타겟트로 사용하여 유리 기판위에 dc reactive magnetron sputtering법으로 $N_2$/(Ar+N_2)$ 비, 기전력 및 시간등의 여러 가지 증착 조건에서 Ti-6Al-4V-N 필름을 증착하였고, 각각의 증착 조건에 따른 결정구조 및 우선방위 거동은 X-선 회절장치를 사용하여 조사하였다. Ti-6Al-4V-N 필름은 본질적으로 fcc 결정구조의 $delta$-TiN에 Al과 V이 결함으로서 고용된 변형된 형태의 $delta$-TiN구조이고, TiN의 격자상수(4.240 )보다 작은 값을 나타내었는데, 이는 Ti(1.47 )에 비하여 상대적으로 원자반경이 작은... -
RF Magnetron Sputtering 으로 제작된 Co-based MnSbPt 합금박막의 자기광학적 성질
윤현묵, 홍연기, 이경재, 김종오, Yun. Hyeon-Muk, Hong. Yeon-Gi, Lee. Gyeong-Jae, Kim. Jong-O 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1998, Vol.8 No.3 195-199 (5 pages)
R.F. Magnetron Sputtering 법으로 Co를 base로 MnSbPt 합금박막의 최적 열처리 조건은 $300^{circ}C$-4시간 이었으나, 종래의 MnSbPt 합금박막의 경우와 같이 수직자화막은 얻을 수 없었다. 보자력은 Co의 두께가 $250AA$에서 최대를 나타냈으나 약 500 Oe이하로 실용적 측면에서 불충분 하였다. 진공중에서 $300^{circ}C$ 4시간 열처리한 합금박막의 경우, 700nm의 입사파장에서 약 $0.78^{circ}$에 이르는 Kerr 회전각을 보이므로 고보자력을 지닌 수직자화막을 제조할 수 있다면 우수한 차세대 고밀도 자기 기록매체로서 유망하다.