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R-F magnetron sputtering 법으로 제조된 SrBi$_2$Ta$_2$O$_9$ 강유전성 박막의 미세구조 특성 및 전기적 특성
김효영, 박상준, 장건익 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 11 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 1999, Vol.6 No.2 51-61 (11 pages)
R.f. magnetron sputtering법에 의해 $SrBi_2Ta_2O_9$ 박막을 $Pt/SiO_2$/Si p-tyPp (100) 기판 위에 제조하였다. 제조된 박막을 $800^{circ}C$에서 열처리한 후 증착 조건에 따라 미세구조와 전기적 특성을 측정하였다. $800^{circ}C$에서 열처리된 박막은 (006), (111), (200) 및 이차상인 BiPt 피크가 XRD 분석 결과 나타났으며, 가스 압력의 감소와 기판 온도의 증가에 따라 결정입자는 성장하였다. 50mtorr, $100^{circ}C$에서 증착 후 $800^{circ}C$에서 열처리한 박막의 두께는 200nm이었다. 이 박막의 잔류분극과 항전계 값은... -
RF-DC magnetron co-sputtering법에 의한 p-ZnO 박막의 성장
강승민, Kang. Seung Min 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 4 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 2004, Vol.14 No.6 277-280 (4 pages)
p형 ZnO 에피 박막을 사파이어 기판의 (0001)면 상에 RF-DC magnet co-sputtering 법으로 성장시켰다. 약 120nm두께의 단결정상 박막을 성공적으로 얻어내었다. p형 ZnO를 만들기 위해서 Al 금속 타켓을 이용하여 DC 스퍼터링으로 $400^{circ}C$와 $600^{circ}C$에서 ZnO를 rf magnetron sputtering으로 증착하고, 동시에 Al의 doping을 행하였으며, 성장된 박막의 결정성과 광특성에 대하여 고찰하였다. -
Deposition of Cu-Ni films by Magnetron Co-Sputtering and Effects of Target Configurations on Film Properties
Seo. Soo-Hyung, Park. Chang-Kyun, Kim. Young-Ho, Park. Jin-Seok 대한전기학회 KIEE international transactions on electrophysics and applications 5 Pages
대한전기학회 KIEE international transactions on electrophysics and applications 2003, No.0 23-27 (5 pages)
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Synthesis of TCO-free Dye-sensitized Solar Cells with Nanoporous Ti Electrodes Using RF Magnetron Sputtering Technology
Kim. Doo-Hwan, Heo. Jong-Hyun, Kwak. Dong-Joo, Sung. Youl-Moon 대한전기학회 Journal of electrical engineering & technology 5 Pages
대한전기학회 Journal of electrical engineering & technology 2010, Vol.5 No.1 146-150 (5 pages)
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Growth of AlN Thin Film on Sapphire Substrates and ZnO Templates by RF-magnetron Sputtering
나현석, Na. Hyun-Seok 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2010, Vol.19 No.1 58-65 (8 pages)
먼저 RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 사파이어 기판 위에 AlN 박막을 증착하였다. AlN 공급원으로는 분말소결된 AlN 타겟을 적용하였다. 플라즈마 파워를 50에서 110 W로 증가시켰을 때 AlN 층의 두께는 선형적으로 증가하였다. 그러나 동작압력을 3에서 10 mTorr로 증가시켰을 때는 동작기체인 아르곤 양이 증가함에 따라 AlN 타겟으로부터 스퍼터링되어 나온 AlN 입자들의 평균자유행정의 거리가 감소하기 때문에 AlN 층의 두께는 약간 감소하였다. 질소 기체를 아르곤과 섞어주었을 때는 질소의 낮은 스퍼터링 효율에 의해서... -
RF-Magnetron Sputtering에 의하여 ITO 유리 위에 성장된 $SrTiO_3$박막의 열처리 특성
김화민, 이병로 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2001, Vol.10 No.4 416-423 (8 pages)
$SrTiO_3$ 박막의 미세구조와 광학적 및 유전적 특성에 대한 열처리 효과들이 조사되었다. $SrTiO_3$ 박막은 RF-마그네트론 스퍼터링 방법에 의하여 상온의 ITO유리 위에 성장되었으며, 성장된 박막들은 산소 분위기의 여러 온도에서 열처리되었다. X선 회절 패턴을 분석한 결과 상온에서 제작된 as-deposited박막은 비정질 상태로 나타났으며, 450-$600^{circ}C$에서 열처리한 시료에서는 pyrochlore 구조의 결정 피크들이 우세하게 관측되었다. 그리고 $650^{circ}C$에서 열처리한 시료에서는 perovskite 구조가 우세하게 나타나는 것이...