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$TiCl_4/AlCl_3/N_2/Ar/H_2$ 반응계를 사용하는 플라즈마화학증착법에 의한 $Ti_{1-x}Al_xN$ 박막의 구조분석 및 물성
김광호, 이성호 한국세라믹학회 요업학회지 8 Pages
한국세라믹학회 요업학회지 1995, Vol.32 No.7 809-816 (8 pages)
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$Cl_2/Ar$ 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 $N_2$ 가스 첨가 효과
류재흥, 김남훈, 장의구, 김창일, Ryu. Jae-Heung, Kim. Nam-Hoon, Chang. Eui-Goo, Kim. Chang-Il 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 6 Pages
대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 2000, Vol.37 No.7 1-6 (6 pages)
식각하기 이하여 기존에 최적화된 가스 혼합비인 $Cl_2$(10)Ar (90)에 $N_2$ 가스를 첨가하기 실험하였다. $Cl_2$(10)/Ar(90)의 가스 혼합비에 20% $N_2$가스 첨가시, $SiO_2$ 마스크에 대한 Pt 박막의 선택비 향상으로 70$^{circ}$ 이상의 식각 프로파일을 얻을 수 있었다. 이는 $SiO_2$ 마스크 위에 Si-N, Si-O-N과 같은 차단막 생성을 통한 결과로 확인 되어졌다. $SiO_2$ 마스크에 대한 Pt 박막의 최대 선택비와 식각률은 각각 1.71과 4125 ${AA}$/min 이다. 이는 Pt-N, Pt-N-Cl과 같은 휘발성 화합물의 생성을 통한 결과로 판단된다. -
$Ar/N_2 및 Kr/N_2$혼합가스의 교류절연파괴 특성
이상우, 김인식, 이동인, 이광식, 김이국, Lee. Sang-Woo, Kim. In-Sik, Lee. Dong-In, Lee. Kwang-Sik, Kim. Lee-Kook 대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 8 Pages
대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 2001, Vol.50 No.12 599-606 (8 pages)
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평등 및 불평등 전계하에서 순수 Ar, $N_2$가스와 Ar/$N_2$혼합 가스의 교류절연파괴 특성
이상우, 김인식, 이동인, 이광식, 김이국 한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 8 Pages
한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 2001, Vol.15 No.5 20-27 (8 pages)
및 불평등 전계하에서 58.8~137.3[kPa]의 가스 압력변화에 따른 순수 Ar 및 $N_2$가스의 교류절연파괴 특성을 조사하였다. 그리고 가스 압력 변화에 따른 Ar/$N_2$ 혼합 가스의 교류절연파괴 특성과 비교하였다. 실험 결과를 요약하면, 평등 및 불평등 전계하에서 순수 $N_2$가스의 압력 변화에 따른 교류절연파괴 특성은 순수 Ar 가스에 비해 약 4.8배 1.1배 증가된 것으로 나타났으며, 압력이 증가됨에 따라 교류절연파괴전압은 증가되었다. Ar/$N_2$혼합 가스의 절연파괴전압은 순수 $N_2$가스의 혼합비가 적을수록 감소되었으며, 혼합... -
플라즈마 처리에 의한 폴리메틸펜텐 막의 $CO_2/N_2$ 혼합가스의 투과특성
배성렬, 전성우, 곽현 한국막학회 멤브레인 8 Pages
한국막학회 멤브레인 2003, Vol.13 No.2 73-80 (8 pages)
폴리메틸펜텐 막(polymethylpentene membrane, PMP)을 Ar, NH_3$ 플라즈마로 표면 처리하고, 처리 전후의 투과 도와 선택도의 변화를 관찰하였다. Ar 플라즈마로 처리하였을 때 O/C의 비율이 증가하며 친수성기 (OH, COOH, C=O)의 도입이 확인되었고 $NH_3$ 플라즈마로 처리하였을 때 아민, 아미노기가 도입되었다. 플라즈마 처리된 폴리메틸펜텐막에서 $CO_2$의 투과도와 $N_2$,에 대한 선택도 (Actual Separation Factor)의 최적조건은 Ar 플라즈마 처리 (30 W-6 min)의 경우 각각 182 Barrer... -
평판 유도 결합형 $CH_4/H_2/Ar$ 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향
김문영, 태흥식, 이호준, 이용현, 이정희, 백영식, Kim. Mun-Yeong, Tae. Heung-Sik, Lee. Ho-Jun, Lee. Yong-Hyeon, Lee. Jeong-Hui, Baek. Yeong-Sik 대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 7 Pages
대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 2000, Vol.49 No.8 438-444 (7 pages)
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HfN/Si$_3$N$_4$와 NbN/$Si_3N_4$다층박막의 기계적 특성
정진중, 황선근, 이종무, Jeong. Jin-Jung, Hwang. Seon-Geun, Lee. Jong-Mu 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2001, Vol.11 No.3 236-242 (7 pages)
스퍼터링법으로 증착된 HfN/Si$_3$N$_4$와 NbN/Si$_3$N$_4$다층박막의 기계적인 성질들을 막 증착 조건에 따라 평가하였다. HfN/Si$_3$N$_4$와 NbN/Si$_3$N$_4$ 다층박막의 강도는 $N_2$/Ar비가 0.4일 때가지 증가하다가 유량비가 증가함에 따라 더 이상 증가하지 않았다. 두 다층박막의 강도는 낮은 온도에서의 열처리에 의해서는 거의 변화가 업지만 80$0^{circ}C$ 정도의 고온에서는 열처리에 의한 산화로 인하여 감소하였다. 낮은 온도에서의 열처리는 밀착성을 향상시키는 반면 고온에서의 열처리는 강도의 감소 이외에 밀착성이... -
$Ti_3O_5/SiO_2$ 다층박막를 이용한 협대역 칼라투과필터 제작 및 특성연구
박문찬, 고견채, 이화자, Park. Moon-Chan, Ko. Kyun-Chae, Lee. Wha-Ja 한국안광학회 한국안광학회지 6 Pages
한국안광학회 한국안광학회지 2011, Vol.16 No.4 357-362 (6 pages)
약 12 nm이고 투과율이 99%인 협대역 칼라투과필터의 필터층과 AR 코팅층을 설계하였다. 또 한 electron beam evaporation 장치를 이용하여 $Ti_3O_5/SiO_2$ 다층막 칼라필터을 만든 후, 분광광도계를 이용하여 투과율을 측정하였고, SEM 사진에 의한 칼라필터의 단면으로부터 칼라필터의 박막두께와 층수를 알 수 있었고, XPS분석으로부터 박막 성분을 분석하였다. 결과: 칼라필터의 AR 코팅층의 최적조건은 6층으로 [air$|SiO_2(90)|Ti_3O_5(36)|SiO_2(5)|Ti_3O_5(73)|SiO_2(30)|Ti_3O_5(15)|$ glass]이며, 반치폭이 12 nm인 칼라필터의... -
압력변화에 따른 Ar/N2및 Kr/N2혼합가스의 절연파괴 특성
이상우, 이동인, 이광식, 김인식, 김이국, 배영호 한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 8 Pages
한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 2002, Vol.16 No.1 106-113 (8 pages)
Kr, Ar 및 $N_2$가스의 절연 특성을 조사하고, 혼합가스인 Ar/$N_2$및 Kr/$N_2$가스의 절연 특성과 비교하였다. 또한, 실용 백열전구내의 혼합가스에 위한 각종 특성을 조사하였다. 실험 결과, $N_2$가스의 압력변화에 따른 절연 특성은 큰 분자량을 가진 Kr 및 Ar가스에 비하여 증가되었으며, 가스의 압력이 증가됨에 따라 절인파괴전압은 증가되었다. Ar/$N_2$및 Kr/$N_2$가스의 절연파괴전압은 $N_2$가스의 혼합비가 적을수록 감소되었으며, Kr(70%)$N_2$(30%)가스의 코로나개시전압은 Ar(70%)/$N_2$(30%)가스에 비해 증가되었다. 일반... -
The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Park. Jung-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.4 144-147 (4 pages)


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