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LCD 공정용 C3F6 가스를 이용한 Si3N4 박막 식각공정 및 배출가스에 관한 연구
전성찬, 공대영, 표대승, 최호윤, 조찬섭, 김봉환, 이종현, Jeon. S.C., Kong. D.Y., Pyo. D.S., Choi. H.Y., Cho. C.S., Kim. B.H., Lee. J.H. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2012, Vol.21 No.4 199-204 (6 pages)
$SF_6$ 가스는 반도체 및 디스플레이 제조공정 중 건식식각 공정에서 널리 사용되는 가스이다. 하지만 $SF_6$ 가스는 대표적인 온실가스로서 지구 온난화에 큰 영향을 끼치기 때문에 반도체 및 디스플레이 공정에서 $SF_6$ 가스를 대체할 수 있는 가스의 연구가 필요한 상황이다. 그 후보군으로 떠오르고 있는 가스 중의 하나가 바로 $C_3F_6$ 가스이다. 이 가스를 이용하여 $Si_3N_4$ 박막을 건식식각 방법인 Reactive Ion Etching 공정을 수행하여 식각 특성에 관하여 연구하였으며, 흡착제 Zeolite 5A를 이용하여 식각공정 중 배출되는... -
Si3N4-코팅 유/무기 복합 분리막을 통한 리튬이온전지용 분리막의 제조 및 평가
여승훈, 손화영, 서명수, 노태욱, 김규철, 김현일, 이호춘, Yeo. Seung-Hun, Son. Hwa-Young, Seo. Myeong-Su, Roh. Tae-Wook, Kim. Gyu-Chul, Kim. Hyun-Il, Lee. Ho-Chun 한국전기화학회 전기화학회지 6 Pages
한국전기화학회 전기화학회지 2012, Vol.15 No.1 48-53 (6 pages)
리튬 이차전지의 대표적인 분리막인 polyethylene(PE) 분리막은 열에 의한 수축 및 기계적 파열의 단점을 가지고 있다. 본 연구에서는 이러한 기존 PE 분리막을 개선하기 위해 $Si_3N_4$ 코팅 분리막 (SCS, Silicon-nitride Coated Separator)을 제작하였다. $Si_3N_4$ 코팅이 분리막의 열적/기계적 수치안정성, 이온전도도, 및 전지의 출력 특성에 미치는 영향을 알아보았다. $Si_3N_4$ 분말을 polyvinylidene fluoride(PVdF) 결착재를 이용하여 PE 분리막의 한 쪽 면에 10 ${mu}m$ 두께로 코팅하여 SCS를 제작하였다. SCS는 PE... -
Si3N4/SnZnO/AZO/Ag/Ti/ITO 다층 박막의 적층 횟수에 따른 광학적 특성
이상윤, 장건익, Lee. Sang-Yun, Jang. Gun-Eik 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 5 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2015, Vol.28 No.1 7-11 (5 pages)
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TSV 웨이퍼 공정용 Si3N4 후막 스트레스에 대한 공정특성 분석
강동현, 구중모, 고영돈, 홍상진, Kang. Dong Hyun, Gu. Jung Mo, Ko. Young-Don, Hong. Sang Jeen 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 4 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2014, Vol.27 No.3 137-140 (4 pages)
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TiO2/Si3N4/Ag/Si3N4/TiO2 다층구조에서 Si3N4 버퍼층이 투과율에 미치는 영향
이서희, 장건익, Lee. Seo-Hee, Jang. Gun-Eik 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 4 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2012, Vol.25 No.1 44-47 (4 pages)
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Si3N4 박막의 유기발광소자 수분침투 방지막으로의 응용
김창조, 신백균, Kim. Chang-Jo, Shin. Paik-Kyun 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 6 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2010, Vol.23 No.5 397-402 (6 pages)
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비휘발성 메모리를 위한 SiO2와 Si3N4가 대칭적으로 적층된 터널링 절연막의 전기적 특성과 열처리를 통한 특성 개선효과
김민수, 정명호, 김관수, 박군호, 정종완, 정홍배, 이영희, 조원주, Kim. Min-Soo, Jung. Myung-Ho, Kim. Kwan-Su, Park. Goon-Ho, Jung. Jong-Wan, Chung. Hong-Bay, Lee. Young 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 4 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2009, Vol.22 No.5 386-389 (4 pages)
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SiO2/Si3N4 터널 절연악의 적층구조에 따른 비휘발성 메모리 소자의 특성 고찰
조원주, Cho. Won-Ju 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 5 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2009, Vol.22 No.1 17-21 (5 pages)
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RF 마그네트론 코스퍼터링을 이용한 Si3N4 매트릭스 내부의 실리콘 양자점 제조연구
하린, 김신호, 이현주, 박영빈, 이정철, 배종성, 김양도, Ha. Rin, Kim. Shin-Ho, Lee. Hyun-Ju, Park. Young-Bin, Lee. Jung-Chul, Bae. Jong-Seong, Kim. Yang-Do 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2010, Vol.20 No.11 606-610 (5 pages)
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MgO/Al2O3가 소결조제로 첨가된 Si3N4 세라믹스의 수열 조건에서의 부식열화 거동
김원주, 강석민, 박지연, Kim. Weon-Ju, Kang. Seok-Min, Park. Ji-Yeon 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2007, Vol.17 No.7 366-370 (5 pages)