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Fe-Zr-N 연자성 박막의 자기적 성질
김택수, 김종오, 이중환, 윤선진, 김좌연 한국자기학회 韓國磁氣學會誌 6 Pages
한국자기학회 韓國磁氣學會誌 1996, Vol.6 No.5 317-322 (6 pages)
RF magnetron reactive sputtering 법으로 Fe-Zr-N 박막을 제작하여 열처리 온도와 질소 분압의 변화에 따른 포화자화, 보자력, 고주파에서의 투자율 그리고 열적 안정성을 조사하였다. Fe-Zr-N 박막은 비정질과 결정질의 경계 조성인 $Fe_{72-78}Zr_{7-10}N_{15-18}$의 조성범위에서 연자성을 나타내었다. 이러한 박막은 포화자속밀도 1.55 T, 1 MHz에서의 실효 투자율은 3000 이상의 연자성을 나타내고 열처리 온도 $550^{circ}C$ 까지도 실효투자율 2500 정도의 열적 안정성을 나타내었다. X-선 회절 분석 결과 열처리에 의해서 ZrN... -
Sputter 착색에 의한 Black-dyed PET 직물의 색상 및 물성변화
구강, 원은희, 박영미, Koo. Kang, Won. Eun-Hee, Park. Young-Mi 한국염색가공학회 韓國染色加工學會誌 9 Pages
한국염색가공학회 韓國染色加工學會誌 2006, Vol.18 No.4 11-19 (9 pages)
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직류 및 고주파 마그네트론 스퍼터링법으로 증착한 Ti-Al-V-N 박막의 특성
손용운, 정인화, 이영기, Sohn. Yong-Un, Chung. In-Wha, Lee. Young-Ki 한국열처리공학회 열처리공학회지 7 Pages
한국열처리공학회 열처리공학회지 2000, Vol.13 No.6 398-404 (7 pages)
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반응성 마그네트론 스퍼터링법으로 제조한 Ti-Al-V-N 박막의 미세조직 및 부착특성에 관한 연구
손용운, 이영기, Sohn. Yong-Un, Lee. Young-Ki 한국열처리공학회 열처리공학회지 7 Pages
한국열처리공학회 열처리공학회지 1999, Vol.12 No.3 199-205 (7 pages)
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UBM Sputtering System에 의한 안경테용 TiN막 제작에 있어 Oxygen 영향 연구
박문찬, 이종근, 주경복, 이화자, 김응순, 최광호, Park. Moon-Chan, Lee. Jong-Geun, Joo. Kyung-Bok, Lee. Wha-Ja, Kim. Eung-Soon, Choi. Kwang-Ho 한국안광학회 한국안광학회지 6 Pages
한국안광학회 한국안광학회지 2009, Vol.14 No.1 63-68 (6 pages)
목적: Magnetron의 세기를 비대칭으로 한 unbalanced magnetron sputtering 장치를 설계 제작하고, 이 장치를 사용하여 sus304시편 위에 TiN을 코팅할 때 산소영향을 연구하고자 한다. 방법: 코팅막의 두께를 알기 위해 실리콘 웨이퍼 위의 코팅막을 SEM으로 단면을 관찰하였고, TiN 코팅박막표면의 성분을 분석하기 위하여 XPS를 사용하였으며, 표면안쪽의 성분을 관찰하기 위해 depth profile을 하였다. 결과: XPS depth profile 데이터로부터 티타늄과 질소 뿐만 아니라 산소가 일정한 양으로 존재하며, 산소의 양은 약 65 at.%의 큰... -
UBM Sputtering System에 의한 TiN막의 색상과 경도에 관한 연구
박문찬, 이종근, 주경복, Park. Moon-Chan, Lee. Jong-Geun, Joo. Kyung-Bok 한국안광학회 한국안광학회지 6 Pages
한국안광학회 한국안광학회지 2009, Vol.14 No.1 57-62 (6 pages)
목적: Magnetron의 세기를 비대칭으로 한 unbalanced magnetron sputtering 장치를 설계 제작하고 sus304시편 위에 TiN박막을 증착하여 색상과 경도에 관한 연구를 하고자 한다. 방법: 증착된 박막표면의 화학조성을 양적으로 분석하기 위하여 XPS high resolution scan과 curve fitting을 수행하였으며, 박막 표면의 경도를 측정하기 위해 nano indentation 장비를 이용하였다. 결과: 박막 두께가 두꺼워지면 박막의 색상은 처음에는 연한 금색, 시간이 지남에 따라 어두운 금색, 연보라, 남색으로 바뀌었다. 두께에 따른 박막의... -
광섬유 Fabry-Perot 간섭형 센서 제조를 위한 $TiO_{2}$ 반사막의 형성 및 그 특성
박동수, 김명규, 김창원, 이정희, 강신원, 손병기, Park. Dong-Soo, Kim. Myung-Gyoo, Kim. Chang-Won, Lee. Jung-Hee, Kang. Shin-Won, Sohn. Byung-Ki 한국센서학회 센서학회지 9 Pages
한국센서학회 센서학회지 1995, Vol.4 No.3 71-79 (9 pages)
응답특성이 빠르고, 좁은 영역에서의 측정에 있어 매우 유리한 고 분해능의 광섬유 Fabry -Perot 간섭형 센서를 제조하기 위해 반사막으로 사용될 $TiO_{2}$ 박막의 형성법에 대해 조사하였다. RF magnetron sputtering 법을 이용하여 증착된 $TiO_{2}$ 박막은 굴절률이 $2.36{sim}2.48$정도, 그리고 O/Ti의 원소조성비는 거의 2에 가까운 화학양론적인 조성비가 되어 e-beam 증착법으로 증착된 박막보다 우수한 특성을 나타내었다. 또한 용융 접합법을 사용하여 광섬유 선로내에 $TiO_{2}$ 반사막을 형성할 경우 RF 전력이 120W인... -
펄스 DC 마그네트론 스퍼터링법에 의한 Zn1-xCoxO 박막의 미세조직 및 자기적 특성
고윤덕, 고석배, 최문순, 태원필, 김기출, 김종민, 서수정, 김용성, Ko. Yoon-Duk, Ko. Seok-Bae, Choi. Moon-Soon, Tai. Weon-Pil, Kim. Ki-Chul, Kim. Jong-Min, Soh. Su-Jeung 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 7 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2005, Vol.42 No.3 211-217 (7 pages)
펄스 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 Co농도 변화에 따라 유리 기판 위에 ZnJ-xcoxo 박막을 제조하였다. Co 농도의 증가에 따라 $Zn_{1-x}Co_{x}O$ 박막의 c축 결정 배향성은 향상되었다. 표면 형상 분석을 통하여 매우 치밀한 박막이 성장되었음을 찰 수 있었다. 박막의 UV-visible투과율 측정 결과, $Co^{2+}$ 이온에 의한 sp-d상호교환 작용과 d-d 천이를 확인할 수 있었다. $Zn_{1-x}Co_{x}O$ 박막의 비저항은 $10^{-2}~10^{-3};Omega{cdot}cm$의 값을 가지며 Co농도의 증가에 따라 박막의 비저항은 증가하였고, 특히 $30;at\%$... -
Seed-layer 공정을 이용한 Ba0.66Sr0.34TiO3박막의 제조 및 전기적 특성 연구
최덕영, 박철호, 손영국 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 8 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2003, Vol.40 No.2 198-205 (8 pages)
R.F. Magnetron Sputtering법을 이용하여 Pt/Ti/ $SiO_2$/Si기판 위에 seed-layers와 $Ba_{0.66}$S $r_{0.34}$Ti $O_3$박막을 제조하였다. 다양한 기판온도에 따른 BST 박막의 전기적인 특성(정전용량과 누설전류)과 seed-layer층이 BST 박막에 미치는 영향을 조사하였다. BST 박막은 seed-layer층을 삽입함으로써 박막의 결정성이 향상되었고, 박막의 기판온도(결정화온도)도 상당히 낮출 수 있었다. 순수한 BST에 비하여 seed-layer를 삽입한 BST는 높은 유전상수와 낮은 유전손실 및 낮은 누설전류를 가지는 우수한 전기적 특성을... -
마그네트론 스퍼터링에 의해 제작한 Gallium-doped ZnO 박막에 있어서 잔류 H2O 분압의 영향
송풍근, 권용준, 차재민, 이병철, 류봉기, 김광호, Song. Pung-Keun, Kwon. Young-Jun, Cha. Jae-Min, Lee. Byung-Chul, Ryu. Bong-Ki, Kim. Kwang-Ho 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 7 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2002, Vol.39 No.10 928-934 (7 pages)
Ga을 치환 고용시킨 ZnO(GZO) 박막을 GZO 세라믹 타켓을 사용하여 직류 마그네트론 스퍼터법에 의해 기판온도(RT, 400${circ}C$), 잔류 $H_2O$ 분압(PH2O; 1.61${ imes}10^{-4}∼2.2{ imes}10^{-3}$ Pa), $H_2$ 가스 첨가(8.5%), 캐소드의 자장강도(250, 1000G)등의 다양한 조건하에서 제작했다. 기판 가열 없이 100% Ar를 사용한 경우, $P_{H_2O}$가 1.61${ imes}10^{-4}$ Pa에서 2.2${ imes}10^{-3}$ Pa로 증가 했을 때, 박막의 결정립 크기는 24 nm에서 3 nm로 감소했으며, 비저항은 3.0${ imes}10^{-3}$에서 3.1${...