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비정질 실리콘 박막 트랜지스터 히스테리시스 특성의 온도의존성
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  • 비정질 실리콘 박막 트랜지스터 히스테리시스 특성의 온도의존성
  • Temperature dependent hysteresis characteristics of a-Si:H TFT
저자명
이우선,오금곤,장의구
간행물명
電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
권/호정보
1996년|9권 3호|pp.277-283 (7 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The temperature dependent characteristics of hydrogenerated amorphous silcon thin film transistor (a-Si:H TFT) with a bottom gate of N-Type <100> Si wafer were investigated. Drain current on the hysteresis characteristic curve showed an exponential variation. Hysteresis area of TFT increased with the gate voltage increased and decreased with the small gate voltage. According to the variation of gate voltages, drain current of TFT increased by temperature increase, and hysteresis characteristics mainly depended on the temperature increase. The hysteresis current showed negative characteristics curve over 383K. The hysteresis occurance area and the differences of forward and reverse sweep were increased at the higher temperature. Hysteresis current of I$_{d}$(on/off) ratio decreased at the lower temperature and increased at the higher temperature.e.