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ADSORPTION OF ATOMIC-HYDROGAN ON THE Si(100)-(2$ imes$l)-SB SURFACE STUDIED BY TOF-ICISS/LEED
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  • ADSORPTION OF ATOMIC-HYDROGAN ON THE Si(100)-(2$ imes$l)-SB SURFACE STUDIED BY TOF-ICISS/LEED
  • ADSORPTION OF ATOMIC-HYDROGAN ON THE Si(100)-(2$ imes$l)-SB SURFACE STUDIED BY TOF-ICISS/LEED
저자명
Ryu. Jeong-Tak,Kui. Koichiro,Katayama. Mitsuhiro,Oura. Kenjiro
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
1996년|29권 6호|pp.884-890 (7 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We have investigated a structural change of Si(100)-($2 imes 1$)-Sb surface caused by atomic hydrogen adsorption at room temperature using time-of-flight impact collision ion scattering spectroscopy (TOF-ICISS) and low energy electron diffraction (LEED). We found that when atomic hydrogen adsorbs on the Si(100)-($2 imes 1$)-Sb surface, (1) the partial desorption of Sb atoms from the Si(100) surface occurs even at room temperature, (2) the rest Sb atoms are displaced from their original positions and form an almost two-dimensional layer with dispersive distribution of Sb atoms, and (3) the structural transformation into the Si(100)-($1 imes 1$)-H periodicity is induced by the formation of the $1 imes 1$-H dihydride phase on the Si substrate.