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졸-겔법에 의한$ Ta_2$$O_5$ 박막의 전기적 특성
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  • 졸-겔법에 의한$ Ta_2$$O_5$ 박막의 전기적 특성
  • Electric properties of $ Ta_2$$O_5$ thin films by sol-gel method
저자명
유영각,이준웅
간행물명
電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
권/호정보
1997년|10권 1호|pp.61-67 (7 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
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주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We have studied dielectric properties of sol-gel derived tantalum oxide thin films as the insulators. As the sample is annealed from 300.deg. C to 700.deg. C, it is found amorphous below 600.deg. C and crystalline over it. Dielectric constant is maximum(18.6) when Ta$_{2}$O$_{5}$ film was annealed at 400.deg. C. It is found that dielectric strength in Ta$_{2}$O$_{5}$ film annealed at 400.deg. C (1.5MV/cm) increases and then decreases over annealed at 500.deg. C. This phenomenon was attributed to pinhole effect and crystallization. The de conduction properties can be interpreted by Poole-Frenkel effect.ect.