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Sol-Gel법으로 제작된 광메모리영역 PLZT박막의 전기적 특성
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  • Sol-Gel법으로 제작된 광메모리영역 PLZT박막의 전기적 특성
저자명
최형욱,장낙원,백동수,박정흠,박창엽
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
1998년|11권 1호|pp.57-61 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this study, PLZT stock solutions were prepared by Sol-Gel processing after the compositions were selected in the memory region of PLZT bulk phase diagram. PLZT solutions were deposited on the ITO glass substrate by spin-coating method. The thin films were annealed by rapid thermal processing. The electric characteristics, hysteresis loop, C-V characteristics of thin films in the memory region were measured in order to investigate the electrical characteristics of PLZT thin films. In selected compositions the decrease in Zr/Ti ratio led to an increase in dielectric constant and the decrease in remanent polarization and coercieve field which brought about slim hysteresis loop.