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Sol-Gel법으로 제작한 X/65/35 (X=6~11) PLZT 박막의 전기 및 광학 특성
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  • Sol-Gel법으로 제작한 X/65/35 (X=6~11) PLZT 박막의 전기 및 광학 특성
저자명
강종윤,장낙원,백동수,최형욱,박창엽
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
1998년|11권 3호|pp.237-241 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this study, PLZT stock solutions around x/65/35 (x=6~11) ferroelectric region were prepared by Sol-Gel method and deposited on ITO-glass by spin-coating method. The thin films were annealed by RTA(rapid thermal annealing). The variations of crystallographic structure of the thin films were observed using XRD and hysteresis curves, dielectric characteristics, and optical transmittances were measured in order to investigate the characteristics of the thin films. The thin films were crystallized at $750^{circ}C$ for 5 min by RTA. Relative dielectric constant and optical transmittance increased with increasing La content, Ec and Pr were higher for thin films than for bulk materials.