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A 1.8 GHz SiGe HBT VCO using 0.5μm BiCMOS Process
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  • A 1.8 GHz SiGe HBT VCO using 0.5μm BiCMOS Process
  • A 1.8 GHz SiGe HBT VCO using 0.5μm BiCMOS Process
저자명
Lee. Ja-Yol,Lee. Sang-Heung,Kang. Jin-Young,Shim. Kyu-Hwan,Cho. Kyoung-Ik,Oh. Seung-Hyeub
간행물명
Journal of the Korea Electromagnetic Engineering Society
권/호정보
2003년|3권 1호|pp.29-34 (6 pages)
발행정보
한국전자파학회
파일정보
정기간행물|ENG|
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주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this paper, we fabricated an 1.8 ㎓ differential VCO using a commercial 0.5 ${mu}{ extrm}{m}$ SiGe BiCMOS process technology, The fabricated VCO consumes 16 ㎃ at 3 V supply voltage and has a 1.2 $ imes$ 1.6 <TEX>$mm^2$TEX>chip area. A phase noise measured at 100 KHz offset carrier is -110 ㏈c/Hz and a tuning range is 1795 MHz~1910 MHz when two varactor diodes are biased from 0 V to 3 V.