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노광파장과 근접거리에 따른 두꺼운 감광막의 측면기울기 변화에 관한 연구
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  • 노광파장과 근접거리에 따른 두꺼운 감광막의 측면기울기 변화에 관한 연구
  • A Study on Variation of the Sidewall Angle of a Thick Photoresist on the Wavelength and the Proximity gap
ㆍ 저자명
한창호,김학,김현철,전국진
ㆍ 간행물명
반도체및디스플레이장비학회지
ㆍ 권/호정보
2004년|3권 1호|pp.27-30 (4 pages)
ㆍ 발행정보
한국반도체및디스플레이장비학회
ㆍ 파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
ㆍ 주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this work, the variation of the sidewall profile of a thick photoresist on the wavelength and proximity gap was investigated. PMER P-LA900PM, DNQ (DiazoNaphthoQuinone) novolac type photoresist, is used for experiments. The calculated results agreed well with the experimental results.

키워드

Thick PhotoresistContact PrintingSidewall Angleabsorptiondiffraction

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