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RFCVD 장치를 이용하여 성장한 실리콘 나노와이어의 특성
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  • RFCVD 장치를 이용하여 성장한 실리콘 나노와이어의 특성
저자명
김재훈,이형주,신석승,김기영,고춘수,김현숙,황용규,이충훈,Kim. Jae-Hoon,Lee. Hyung-Joo,Shin. Seok-Seung,Kim. Ki-Young,Go. Chun-Soo,Kim. Hyun-Suk,Hwang. Yo
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2007년|20권 2호|pp.101-105 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We have synthesized silicon nanowires by using RFCVD(Radio Frequency Chemical Vapor Deposition) system on Au deposited p-type Si(100) wafers, and investigated their physical and electrical properties. The silicon nanowires had been grown in the atmospheres of $H_{2},;N_{2};and;SiH_{4}$ at 10 Torr at the substrate temperatures of $700{pm}5^{circ}C;and;810{pm}5^{circ}C$ respectively. FE-SEM analysis revealed that diameters of the silicon nanowires are $50{sim}60nm$ with the length of several ${mu}m$. XRD analysis showed that the growth direction of the nanowires is Si[111]. Field emission characteristics showed that the turn-of voltages at the current of $0.01;mA/cm^{2}$ are $10;V/{mu}m;and;8.5;V/{mu}m$ for the wires grown at $700{pm}5^{circ}C;and;810{pm}5^{circ}C$, respectively.