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습식화학법을 이용한 고순도 석영유리 기판 제조 및 특성평가
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  • 습식화학법을 이용한 고순도 석영유리 기판 제조 및 특성평가
  • Preparation and Characterization of High-purity Quartz Panel Using Wet-chemical Method
저자명
박성은,남병욱,안정숙,신지식,오한석,Park. Sung-Eun,Nam. Byeong-Uk,An. Jung-Sook,Shin. Ji-Shik,Oh. Han-Seog
간행물명
반도체및디스플레이장비학회지
권/호정보
2007년|6권 4호|pp.33-38 (6 pages)
발행정보
한국반도체및디스플레이장비학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Quartz glass panel was prepared by a colloidal silica through the heat-treatment only without any additives in wet-chemical method. This colloidal silica used in slurry process has the uniform distribution of particle size and lower cost. The results show that 6N as a degree of purity and the 86 percentage of violet transmittance in 1mm thickness. AFM(Atomic Force Microscopy) pattern shows that the surface roughness are less than lnm. Also, we investigated the characteristic of quartz panel according to the concentration and distribution of hydroxyl group, viscosity and thermal expansion coefficient.