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Shadow Mask GRS 공정에서의 반응수율 향상을 위한 기술개발
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  • Shadow Mask GRS 공정에서의 반응수율 향상을 위한 기술개발
저자명
윤문규,구기갑,이문용,Yoon. Mun-Kyu,Koo. Kee-Kahb,Lee. Moon-Yong
간행물명
청정기술
권/호정보
2007년|13권 3호|pp.188-194 (7 pages)
발행정보
한국청정기술학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

급속한 성장에 따른 디스플레이 산업에서의 생산량 증가는 원료 사용의 증가와 배출액의 증가를 야기하고 있으며 이에 따른 폐액 처리양이 증가되어 환경적, 경제적 문제점을 안고 있다. 본 연구에서는 브라운관 소재인 shadow mask의 식각공정 시 사용한 식각용액의 피로도를 감수시키기 위하여 산화반응을 이용하여 신액 사용량과 구액 배출량을 최소화해주는 GRS(Green Recycling System)공정의 수율을 향상시키기 위해 실험실 및 현장적용 실험을 통하여 공정의 최적화를 하기위한 방법을 연구하였다. 공정변수들과 GRS 공정의 수율과의 관계를 규명하였으며 GRS 반응기의 내부구조 개선으로 인해 약 10%의 수율증가를 확인하였으며 공정의 수율 향상과 최적화에 큰 도움이 되었다.

기타언어초록

In the present study, we developed a methodology to minimize a waste solution produced in the etching process. The condition for the optimization of the GRS process was studied on the basis of laboratory experiment and field test as well as pilot test. Through the study, we analyse the relation of the main process variables and the yield of the GRS process. The application of the new operation condition and the reactor internal modification results in 10% yield improvement in the GRS process and accordingly decreases a wasted solution.