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밀도범함수를 이용한 정방정계-NiSi (010)/Si 계면 층의 구조 연구
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  • 밀도범함수를 이용한 정방정계-NiSi (010)/Si 계면 층의 구조 연구
저자명
김대희,김대현,서화일,김영철,Kim. Dae-Hee,Kim. Dae-Hyun,Seo. Hwa-Il,Kim. Yeong-Cheol
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2009년|22권 5호|pp.377-381 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Tetragonal-NiSi (010)/Si superstructures were calculated for studying the interface structure using density functional theory, The orthorhombic-NiSi was changed to the tetragonal-NiSi to be matched with the Si surface for epitaxy interface. The eight interface models were produced by the type of the Si surfaces, The tetragonal-NiSi (010)/Si (020)[00-1] superstructure was energetically the most favorable, and the interface thickness of this superstructure was the shortest among the tetragonal-NiSi (010)/Si superstructures. However, in the case of tetragonal-NiSi (010)/Si (010)[00-1] superstructure, it was energetically the most unfavorable, and the interface thickness was the longest. The energies and interface thicknesses of tetragonal-NiSi (010)/Si superstructures were influenced by the coordination number of Ni atoms and the bond length between atoms located at the interface,