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탄소나노튜브 트랜지스터 특성 연구
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  • 탄소나노튜브 트랜지스터 특성 연구
저자명
박용욱,나상엽,Park. Yong-Wook,Na. Sang-Yeob
간행물명
한국전자통신학회 논문지
권/호정보
2010년|5권 1호|pp.88-92 (5 pages)
발행정보
한국전자통신학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

본 연구에서는 기존의 반도체 공정을 이용하여 bottom gate, top gate구조의 탄소나노튜브 트랜지스터를 제작하였다. 게이트 특성에 따른 특성을 연구하기 위하여 열화학 기상 증착법(CVD)으로 탄소나노튜브를 디바이스에 직접 성장시키고, 탄소나노튜브의 성장 특성 및 I-V동작 특성을 분석하였다. 제작된 탄소나노튜브 FET는 p-type, 즉 hole이 다수 캐리어로 존재하는 트랜지스터이며 구동전압에 따라 conductance 변화하는 특성을 보였다.

기타언어초록

Bottom gate and top gate field-effect transistor based carbon nanotube(CNT) were fabricated by CMOS process. Carbon nanotube directly grown by thermal chemical vapor deposition(CVD) using Ethylene ($C_2H_4$) gas at $700^{circ}C$. The growth properties of CNTs on the device were analyzed by SEM and AFM. The electrical transport characteristics of CNT FET were investigated by I-V measurement. Transport through the nanotubes is dominated by holes at room temperature. By varying the gate voltage, bottom gate and top gate field-effect transistor successfully modulated the conductance of FET device.