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Sol-gel법을 이용한 PLZT박막 커패시터의 전기적 특성
박준열, 정장호, 이성갑, 이영희 한국전기전자재료학회 電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 6 Pages
한국전기전자재료학회 電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 1996, Vol.9 No.7 668-673 (6 pages)
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Effects of Composition on the Memory Characteristics of (HfO2)x(Al2O3)1-x Based Charge Trap Nonvolatile Memory
Tang. Zhenjie, Ma. Dongwei, Jing. Zhang, Jiang. Yunhong, Wang. Guixia, Zhao. Dongqiu, Li. Rong, Yin. Jiang 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.5 241-244 (4 pages)
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Improved Memory Characteristics by NH3 Post Annealing for ZrO2 Based Charge Trapping Nonvolatile Memory
Tang. Zhenjie, Zhao. Dongqiu, Li. Rong, Zhu. Xinhua 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.1 16-19 (4 pages)
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Electrochemical capacitor를 위한 Ru 나노입자가 담지 된 다공성 탄소 나노섬유의 제조
이유진, 안건형, 안효진, Lee. Yu-Jin, An. Geon-Hyoung, Ahn. Hyo-Jin 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2014, Vol.24 No.1 37-42 (6 pages)
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붕산용액에서 형성된 알루미늄 전해콘덴서용 박의 화성피막 조직분석
김성갑, 김성수, 오한준, 조남돈, 지충수, Kim. Seong-Gap, Kim. Seong-Su, O. Han-Jun, Jo. Nam-Don, Ji. Chung-Su 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2001, Vol.11 No.4 329-334 (6 pages)
붕산용액에서 양극산화법으로 장벽형 산화피막을 형성시킨 후 미세조직을 관찰하였다. 양극산화시 인가되는 전압에 따른 피막의 성장속도는 1.54nm/v의 직선적인 관계를 나타냈으며 300v의 인가전압에서 생성된 산화피막의 조직은 50$0^{circ}C$에서 열처리하였을 경우 피막의 상 전이가 일어나지 않았으나 높은 인가전압에서 생성된 산화피막의 경우는 피막의 조직이 비정질에서 ${gamma}$-alumina로 변태되는 것이 관찰되었다. 또한 피막이 전자빔 조사에 의해서도 ${gamma}$-alumina로 전이가 일어났다. -
첨가제에 의한 알루미늄박의 에칭특성변화
김성갑, 신동철, 장재명, 이종호, 오한준, 지충수, Kim. Seong-Gap, Shin. Dong-Cheol, Jang. Jae-Myeong, Lee. Jong-Ho, Oh. Han-Jun, Chi. Chung-Su 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2001, Vol.11 No.1 48-54 (7 pages)
고순도알루미늄 유전체의 내부표면적을 증가시키기 위하여 1M의 염산 에칭용액에 첨가제를 사용했을 때 나타나는 에칭특성의 변화를 조사하였다. 염산용액에 에틸렌글리콜이 첨가된 혼합용액에서 에칭을 실시했을 경우 알루미늄 기지 표면에 미세하고 균일한 에치피트가 형성되어 표면적 증가 효과가 크게 나타났으며, 또한 양극 산화 후 측정된 정전용량의 결과에서도 에틸렌 글리콜이 첨가된 에칭액에서 제조된 유전체는 표면적 증가에 의한 높은 정전용량 값을 나타냈다. -
전해 콘텐사용 알루미늄박의 애칭특성에 미치는 황산첨가의 영향 II. 유전층의 조직 및 임피던스 분석
김성갑, 유인종, 신동철, 오한준, 지충수, Kim. Seong-Gap, Yu. In-Jong, Sin. Dong-Cheol, O. Han-Jun, Ji. Chung-Su 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2000, Vol.10 No.5 375-381 (7 pages)
전해콘텐서용 알루미늄박을 ammonium adipate 용액을 이용하여 $65^{circ}C$에서 10분간 100V 및 140V로 각각 양극 산화시켜 산화 알루미늄 유전체를 만들었다. 유전층의 두께, 화학양론적 관계, 결정구조 등을 RBS 및 TEM을 이용하여 분석하였고, 알루미늄박의 에칭시 황산 첨가로 인한 표면적의 변화는 임피던스 분석법으로 조사 하였다. 생성된 유전피막은 100V 및 140V의 전압을 사용했을 경우 각각 약 130nm 및 190nm 두께의 비정질로 나타났으며 피막의 알루미늄과 산소원소의 화학양자론적 비는 약 2:3의 비율로 존재했다. 또한... -
전해 콘텐사용 알루미늄박의 애칭특성에 미치는 황산첨가의 영향 I. 에치터널의 형상 및 정전 용량
김성갑, 유인종, 장재명, 오한준, 지충수, Kim. Seong-Gap, Yu. In-Jong, Jang. Jae-Myeong, O. Han-Jun, Ji. Chung-Su 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2000, Vol.10 No.5 369-374 (6 pages)
전해콘텐서용 알루미늄박의 직류에칭에서 1M 염산욕에 부식억제제로 1M 황산을 첨가했을 때의 영향을 조사하기 위하여 에치 피트의 밀도, 에치 터널의 길이와 직경, 정전 용량 등의 변화를 분석하였다. 황산이온은 부식억제제로서 염소이온보다 시료의 표면에서 에치 피트의 밀도를 증가시키며 에치 터널의 직경은 감소하나 길이를 증가시킴으로써 전체적으로 표면적이 커지고 또한 정전 용량 값이 증가하였다. 황산이온을 첨가하였을 경우 전류 밀도가 $0.9A/ extrm{cm}^2$ 보다 낮은 경우에는 정전 용량 값이 작지만 그 이상에서는... -
SBT 커패시터의 열처리 조건에 따른 강유전 특성
이성일, Lee. Sung-Ill 한국안전학회 산업안전학회지 5 Pages
한국안전학회 산업안전학회지 2004, Vol.19 No.1 72-76 (5 pages)