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Rf co-sputtering으로 제작한 MgB$_2$ 박막의 in-situ 열처리 효과
김윤원, 안종록, 이순걸, 이규원, 김인선, 박용기 한국초전도학회 Progress in superconductivity 4 Pages
한국초전도학회 Progress in superconductivity 2004, Vol.5 No.2 105-108 (4 pages)
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RF Magnetron Sputtering법으로 제작된 (Pb0.92La0.08)(Zr0.65Ti0.35)O3 박막의 Ar/O2 분압비에 따른 강유전 특성연구
김상지, 윤지언, 황동현, 이인석, 안정훈, 손영국, Kim. Sang-Jih, Yoon. Ji-Eon, Hwang. Dong-Hyun, Lee. In-Seok, Ahn. Jung-Hoon, Son. Young-Guk 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2009, Vol.18 No.2 141-146 (6 pages)
rf magnetron sputtering 법을 이용하여 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 기판 위에 buffer layer인 $TiO_2$ 층을 증착한 후 PLZT 강유전체 박막을 증착하였다. PLZT 박막 증착 시 가스 분압비가 박막의 특성에 미치는 영향을 알아보기 위해 Ar/$O_2$ 분압비를 각각 27/1.5 sccm, 23/5.5 sccm, 21/7.5 sccm, 19/9.5 sccm로 변화시키면서 박막을 증착하였다. 이들 박막의 구조적인 특성을 분석하기 위해 X-선 회절법을 사용하였으며 FE-SEM을 이용하여 입자상을 관찰하였다. 또한 박막의 유전특성을 분석하기 위해 Precision LC를 이용하여 이력곡선,... -
SiO2/Si 및 Si 기판에 rf magnetron sputtering법으로 증착된 적외선 센서용 La0.7Sr0.3MnO3 CMR 박막 저항체 특성연구
최선규, 유병곤, 류호준, 박형호, Choi. Sun-Gyu, Yu. Byoung-Gon, Ryu. Ho-Jun, Park. Hyung-Ho 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2008, Vol.17 No.2 130-137 (8 pages)
$La_{0.7}Sr_{0.3}MnO_3$ 박막을 rf 마그네트론 스퍼터를 이용하여 챔버 내 산소가스유량비를 0, 40, 80 sccm 으로 조절하고 후열처리 공정 없이 기판온도를 $350^{circ}C$로 유지하면서 $SiO_2$/Si(100) 및 Si(100) 기판에 증착하였다. 증착된 $La_{0.7}Sr_{0.3}MnO_3$ 박막은 $SiO_2$/Si(100), Si(100) 기판 모두 (100), (110), (200)면을 갖는 polycrystalline 상태였으며, oxygen flow rate이 증가함에 따라 박막의 grain size가 증가하였다. 증가되는 grain size로 인하여 grain boundary가 감소하였고 따라서 높은 oxygen flow... -
Zinc Oxide와 갈륨이 도핑 된 Zinc Oxide를 이용하여 Radio Frequency Magnetron Sputtering 방법에 의해 상온에서 제작된 박막 트랜지스터의 특성 평가
전훈하, 노경석, 김도현, 최원봉, 전민현, Jeon. Hoon-Ha, Noh. Kyoung-Seok, Kim. Do-Hyun, Choi. Won-Bong, Jeon. Min-Hyon 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2007, Vol.16 No.5 359-365 (7 pages)
본 논문에서는 zinc oxide (ZnO)와 gallium이 도핑 된 zinc oxide (GZO)를 이용하여 radio frequency (RF) magnetron sputtering 방법에 의해 상온에서 제작된 bottom-gate 박막 트랜지스터의 특성을 평가하고 분석하였다. 게이트 절연층 물질로서 새로운 물질을 사용하지 않고 열적 성장된 $SiO_2$를 사용하여 게이트 누설 전류를 수 pA 수준까지 줄일 수 있었다. ZnO와 GZO 박막의 표면 제곱평균제곱근은 각각 1.07 nm, 1.65 nm로 측정되었다. 그리고 ZnO 박막은 80% 이상, GZO 박막은 75% 이상의 투과도를 가지고 있었고, 박막의... -
RF magnetron sputtering 법으로 증착된 GZO와 ZnO 박막의 광학적 특성
황보수정, 전훈하, 김금채, 이지수, 김도현, 최원봉, 전민현, HwangBoe. S.J., Jeon. H.H., Kim. G.C., Lee. J.S., Kim. D.H., Choi. W.B., Jeon. M.H. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 5 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2007, Vol.16 No.6 453-457 (5 pages)
상온에서 RF magnetron sputtering 을 이용하여 10nm에서 50nm 의 두께를 가지는 ZnO와 GZO 를 유리 기판위에 증착하여 두 물질 간의 구조적 특성과 광학적 특성을 평가하였다. 구조적인 특성은 투과전자현미경 (TEM) 과 주사전자현미경 (SEM)을 통해 이루어졌다. 광학적 특성 평가는 spectrophotometer를 이용하여 UV-VIS-NIR 영역에 관한 투과도를 측정하였다. ZnO의 결정크기가 GZO보다 상대적으로 더 크게나왔으며 이는 결정 경계면에서 발생하는 광산란을 줄임으로서 투과도의 향상을 가져왔다. 투과 전 영역에서 ZnO의 투과도가 더... -
RF Magnetron Sputtering을 이용한 $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$박막 커패시터의 제작과 전기적 특성에 관한 연구
이태일, 박인철, 김홍배 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2002, Vol.11 No.1 1-7 (7 pages)
RF Magnetron Sputtering 방법으로 $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$ 박막을 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 기판위에 증착하였다. $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$ 박막 증착시 기판온도는 실온으로 고정시켜주었고, 작업 가스 유량(Ar:$O_2$)과 RF Power는 각각 90:10에서 60:40까지 그리고 50 W와 75 W로 하였다. 또한 박막 증착 후 RTA(Rapid Thermal Annealing)를 이용하여 산소분위기에서 $600^{circ}C$로 고온 순간 열처리를 하였다. 커패시터 제작을 위해 UHV System의 E-beam evaporator를 이용하여 Pt를 증착하였다. XRD 측정을 통한 구조적 특성에서는 작업...