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양산용 80 kW급 RF Plasma Torch System 개발 및 Si 나노분말 제조 공정 연구
송석균, 손병구, 김병훈, 이문원, 신명선, 최선용, 이규항, 김성인, Song. Seok-Kyun, Son. Byungkoo, Kim. Byunghoon, Lee. Moonwon, Sin. Myungsun, Choi. Sunyong, Lee. Kyu-H 한국진공학회 韓國眞空學會誌 13 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2013, Vol.22 No.2 66-78 (13 pages)
분석 등의 보다 많은 정보의 추출을 위하여 3차원 시뮬레이션을 진행했다. 파우더 주입관 위치, 입력 전류 변화에 따른 플라즈마 생성 특성, 세라믹 원통관 길이에 따른 플라즈마 방전 특성, 및 공정가스 유량에 따른 플라즈마 온도특성 등을 시뮬레이션 했다. 시뮬레이션을 통해 설계 제작된 RF 열 플라즈마 토치의 경우, 최대 89.3 kW까지 파워 인가가 측정되었다. 개발된 80 kW급 RF 열 플라즈마 토치 시스템의 양산성 평가로 Si 나노분말을 제조하고 특성을 고찰하였다. Si 나노분말의 생산량이 평균 539 g/hr의 양산 수준과 71.6%의... -
Phase identification of $C_3N_4$ in CN films prepared by rf plasma chemical vapor deposition and dc magnetron sputtering
Fu. Dejun, Wu. Dawei, Zhang. Zhihong, Meng. Xianquan, He. Mengbing, Guo. Huaixi, Peng. Yougui, Fan. Xiangjun 한국진공학회 韓國眞空學會誌 9 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1998, Vol.7 No.1 140-148 (9 pages)
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RF Helicon Plasma CVD
김경례, 신재균, 현준원 한국전기전자재료학회 전기전자재료 4 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료 1998, Vol.11 No.11 161-164 (4 pages)
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RF Planar Magnetron Plasma CVD에 의한 DLC박막합성에 미치는 RF Power와 반응가스 압력의 영향
김성영, 이재성, Kim. Seong-Yeong, Lee. Jae-Seong 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1997, Vol.7 No.1 27-32 (6 pages)
증착속도가 더욱더 향상될 것이라는 것에 착안하였다. 이를 위해 magnetron에 의한 고밀도 플라즈마가 존재할 때도 역시 DLC박막형성에 미치는 RF 전력과 반응가스 압력이 중요한 반응변수인가에 대해 조사하였고, 일정한 자기장의 세기에서 RF전력과 DC self-bias 전압과의 관계를 조사하였다. 또한 RF전력변화에 따른 박막의 증착속도와 밀도를 측정하였다. 본 연구에 의해 얻어진 박막의 증착속도는 magnetron에 의한 이온화율이 매우 높아 기존의 RF-PECVD 법보다 매우 빠르며, DLC박막의 구조와 물질특성을 알아보기 위해 FTIR(fourier... -
SYNTHESIS OF ULTRAFINE $Si_3N_4$ PARTICLES BY RF PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
Hongjie. Zhu, Zhu. Yihua, Han. Jinyi, Li. Chunzhong, Hu. Liming 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials 6 Pages
한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials 1995, Vol.1 No.2 281-286 (6 pages)
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RF Plasma법으로 증착된 TiCN박막의 구조 및 기계적 거동에 관한 연구
백창현, 박상렬, 홍주화, 위명용, 강희재, Baeg. C.H., Park. S.Y., Hong. J.W., Wey. M.Y., Kang. H.J. 한국열처리공학회 열처리공학회지 7 Pages
한국열처리공학회 열처리공학회지 2000, Vol.13 No.2 91-97 (7 pages)
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환상형상 전극구조를 갖는 저압 RF plasma를 이용한 CF4 제거
이재옥, 허민, 김관태, 이대훈, 송영훈, 이상윤, 노명근, Lee. Jae-Ok, Hur. Min, Kim. Kwan-Tae, Lee. Dae-Hoon, Song. Young-Hoon, Lee. Sang-Yun, Noh. Myung-Keun 한국대기환경학회 한국대기환경학회지 7 Pages
한국대기환경학회 한국대기환경학회지 2010, Vol.26 No.6 690-696 (7 pages)
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$RF-O_2$ Plasma 처리한 MgO 박막의 스퍼터링 수율 측정
정원희, 정강원, 임연찬, 오현주, 박철우, 최은하, 서윤호, 김윤기, 강승언, Jeong. W.H., Jeong. K.W., Lim. Y.C., Oh. H.J., Park. C.W., Choi. E.H., Seo. Y.H., Kim. Y.K., Kang. S 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2006, Vol.15 No.3 259-265 (7 pages)
[ $RF-O_2$ ] plasma 처리한 MgO 박막의 스퍼터링 수율을 집속이온빔 장치를 이용하여 측정하였다. 가속 전압 10 kV의 Ga 이온빔을 주사했을 때 plasma 처리하지 않은 MgO 박막의 스퍼터링 수율은 0.33 atoms/ion, $RF-O_2$ plasma 처리한 MgO 박막의 스퍼터링 수율은 0.20 atoms/ion 으로 $RF-O_2$ plasma 처리한 경우 스퍼터링 수율이 낮아졌다. 또한 XPS, AFM을 통해 plasma 처리로 인한 MgO 표면의 변화를 관찰하였다. MgO 박막에 $RF-O_2$ plasma 처리한 후 XPS O 1s spectra의 binding energy와 FWHM 값이 각각 2.36 eV와 0.6167 eV... -
PREPARATION OF SILICON OXIDE FILMS WITH HIGH WATER REPELLENCY BY RF PLASMA-ENHANCED CVD
Hinzumi. Atsushi, Sekoguchi. Hiroki, Kakinoki. Nobuyuki, Takai. Osamu 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials 6 Pages
한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials 1995, Vol.2 963-968 (6 pages)
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Ultrasonographic ovarian dynamic, plasma progesterone, and non-esterified fatty acids in lame postpartum dairy cows
Pedro Melendez, Veronica Gomez, Hans Bothe, Francisco Rodriguez, Juan Velez, Hernando Lopez, Julian Bartolome, Louis Archbald 대한수의학회 Journal of Veterinary Science 6 Pages
대한수의학회 Journal of Veterinary Science 2018, 제 19권 제 3호 16 462-467 (6 pages)
The objective of this study was to compare ovulation rate, number of large ovarian follicles, and concentrations of plasma progesterone (P4) and non-esterified fatty acids (NEFA) between lame (n = 10) and non-lame (n = 10) lactating Holstein cows. The study was conducted in an organic dairy farm, and cows were evaluated by undertaking ultrasonography and blood sampling every 3 days from 30 days postpartum for a period of 34 days. Cows which became lame during the first 30 days postpartum... -
Activation of autophagy at cerebral cortex and apoptosis at brainstem are differential responses to 835 MHz RF-EMF exposure
JuHwanKim, Da-HyeonYu, HakRimKim 대한생리학회-대한약리학회 The Korean Journal of Physiology & Pharmacology 10 Pages
대한생리학회-대한약리학회 The Korean Journal of Physiology & Pharmacology 2017, Vol.21 No.2 5 179-188 (10 pages)
to 835 MHz RF-EMF induces autophagy in the mice brain. In this study, we explore whether shortterm exposure to RF-EMF leads to the autophagy pathway in the cerebral cortex and brainstem at 835 MHz with a specific absorption rate (SAR) of 4.0 W/kg for 4 weeks. Increased levels of autophagy genes and proteins such as LC3B-II and Beclin1 were demonstrated and the accumulation of autophagosomes and autolysosomes was observed in cortical neurons whereas apoptosis pathways were up-regulated in the... -
Barbiturates가 소의 대뇌피질 Synaptosomal Plasma Membrane Vesicles로 부터 추출 제제한 총지질 및 총인지질 인공세포막에 형성된 비대칭적 유동성에 미치는 비대칭적 영향
윤일(Il Yun), 강정숙(Jung-Sook Kang) 대한약리학회 대한약리학잡지 12 Pages
대한약리학회 대한약리학잡지 1992, 제 28권 제 1호 11 103-114 (12 pages)
한국산 2년생 소의 신선한 대뇌피질로 부터 synaptosomal plasma membrane vesicles (SPMV)를 분리한 후 이 SPMV로 부터 추출한 총지질 (SPMVTL) 및 총인지질 (SPMVPL)로서 인공세포막을 제제하였다. SPMVTL 및 SPMVPL의 outer monolayer에 trinitrophenyl groups로 공유결합시킴으로써 형광 probe 1,6-diphenyl-1,3,5-hexatriene (DPH)의 outer monolayer 형광을 선택적으로 소광케한 후 SPMVTL 및 SPMVPL의 inner와 outer monolayer 사이의 비대칭적 유동성 존재 유무를 확인하였던 바 inner monolayer에 비하여 outer monolayer가... -
국소마취제가 Synaptosomal Plasma Membrane Vesicles의 유동성에 미치는 영향
윤일(Il Yun), 한석규(Suk Kyu Han), 백승완(Seung Wan Baik), 김남홍(Nam Hong Kim), 강정숙(Jung Sook Kang), 정준기(Joong Ki Chung), 이은주(Eun Joo Lee) 대한약리학회 대한약리학잡지 10 Pages
대한약리학회 대한약리학잡지 1988, 제 24권 제 1호 5 43-52 (10 pages)
소의 신선한 대뇌피질로부터 synaptosomal plasma membrane vesicles(SPMV)를 분리한 후 그 소수성 중심부의 microviscosity에 미치는 국소마취제의 영향을 pyrene 형광 probe법으로 측정한 결과 lidocaine HCI과 procaine HCI이 microviscosity를 낮춘다는 것을 알았고 그 정도는 procaine HCI에 비하여 tidocaine.HCI이 더욱 컸다. 또 국소마취 제 가 dimyristoylphosphatidylcholine (DMPC) multilamellar liposomes의 상전 이온도를 낮추며 cooperative unit크기를 감소시킨다는 것도 시차 열량분석법으로 알게 되었다. 상전이온도와... -
Tensile Properties and Morphology of Carbon Fibers Stabilized by Plasma Treatment
이승욱, 이화영, 장성연, 조승무, 이훈수, 이성호 한국탄소학회 Carbon Letters 5 Pages
한국탄소학회 Carbon Letters 2011, Vol.12 No.1 3 16-20 (5 pages)
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Characteristic of Plasma Blacks Used as an Electrode of Direct Formic Acid Fuel Cell
Young Sook Park, Jong-Ho Choi, Jonghee Han, Tae0Hoon Lim, Youngs 한국탄소학회 Carbon Letters 6 Pages
한국탄소학회 Carbon Letters 2005, Vol.6 No.1 6 41-46 (6 pages)
환경문제가 대두되면서 지구온실효과의 대부분을 차지하는 CO₂가스를 발생시키지 않으면서도 21세기 신에너지로 각광받고 있는 수소를 대량으로 제조하는 방법으로 천연가스의 열분해 공정이 최근 연구되고 있다. 이주에서 플라즈마에 의한 천연가스 분해공정은 매우 단순하며, 부생산물로 카본블랙이 제조되어지므로, 이를 활용하여 새로운 부가가치를지닌 소재를 창출할 수 있다. 따라서 본 연구에서는 천연가스의 플라즈마 분해 공정에 의해 부산물로 생성되어 지는 카본블랙에 대한 응용방안을 모색하고자 한다. -
Capacitively Coupled Plasma Source를 이용한 Etcher의 상부 전극 온도 변화에 따른 Etch 특성 변화 개선
신한수, 노용한, 이내응, Shin. Han-Soo, Roh. Yong-Han, Lee. Nae-Eung 한국진공학회 韓國眞空學會誌 5 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2011, Vol.20 No.5 322-326 (5 pages)
전극에 RF power 가 직접 인가되는 capacitively coupled plasma source를 이용한 oxide layer etching 공정은 현재 반도체 제조 공정에서 매우 유용하게 사용되고 있는 방식이다. 그러나 디바이스의 사이즈가 점점 작아지면서 공정을 진행하기 위한 RF power도 커지고, plasma ignition 되는 electrode 사이의 간격도 점점 좁아지는 기술적 변화가 이루어지고 있다. 이러한 H/W의 변화에 따라 예상치 못한 문제들로 공정을 적용하는데 많은 문제점이 발생하고 있는데, 공정 진행 시에 plasma의 영향으로 인한 electrode의 온도 변화도 그... -
RF 플라즈마에 의해 생성된 산소 플라즈마의 발광 스펙트럼
김도엽, 김민수, 김태훈, 김군식, 최현영, 조민영, 전수민, 박성동, 김진하, 김은도, 황도원, 임재영, Kim. Do-Yeob, Kim. Min-Su, Kim. Tae-Hoon, Kim. Ghun-Sik, Choi. Hyun-Young, Cho. Min-Y 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2009, Vol.18 No.2 102-107 (6 pages)
연구에서는 ZnO 박막을 성장하기 위한 plasma-assisted molecular beam epitaxy (PAMBE)에 장착된 플라즈마건에 13.56 MHz의 rf 전력을 인가하였을 때 발생되는 산소 플라즈마의 발광 스펙트럼을 광발광 분광기(optical emission spectroscopy: OES)를 이용하여 조사하였다. 실험은 산소 가스 유량을 1 sccm에서 20 sccm, rf 전력을 25W에서 250 W 범위에서 플라즈마건의 오리피스의 직경을 각각 3 mm 와 5 mm로 달리하여 행해졌다. 산소 플라즈마를 발생시켰을 때 오리피스의 직경에 상관없이 전형적인 산소 플라즈마의 발광 스펙트럼이... -
Plasma로 활성화된 질소 원자를 사용한 사파이어 기판 표면의 저온 질화처리의 XPS 연구
이지면, 백종식, 김경국, 김동준, 김효근, 박성주 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1998, Vol.7 No.4 320-327 (8 pages)
원격 플라즈마 화학기상증착법(Remote Plasma Enhanced-Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition)에 의해 활성화된 질소 원자를 사용하여 사파이어 기판의 표면 을 저온에서 질화처리한 후 표면의 화학적 조성을 조사하였다. 질화처리에 의해 주로 표면 에 형성된 물질은 AIN임을 X-선 광전자 분광방법(X-ray photoelectron spectroscopy:XPS) 을 사용하여 확인하였다. 또한 플라즈마의 RF 출력, 반응 온도 및 시간에 따라서 기판의 Al 과 반응한 질소의 상대적인 양과, 표면 형태를 XPS와 AFM(atomic force microscopy)을 사... -
RF Magnetron Sputtering 법으로 제조된 AIN 박막에 관한 연구
남창길, 최승우, 천희곤, 조동율 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1997, Vol.6 No.1 44-49 (6 pages)
반응성 RF 스퍼터링 장치에 반응성 질소와 작업가스 아르곤을 동시에 주입하면서 Al을 스퍼터링하여 AIN박막을 형성하였다. polycarbonate기판이나 이 디스크 표면 위의 micron크기의 pregroove형태의 손상이 일어나지 않을 정도의 저온의 저온을 유지키 위하여 플라즈마(plasma) 자체 온도($100^{circ}C$이하)로 가열하면서 silicon과 glass기판 위에 AIN박막을 증착시켰다. 여러 증착변수 변화에 따른 박막의 결정성, 단면형상 및 굴절율 변화 등을 분석 하였다. -
평판형 유도결합플라즈마를 이용한 RF 스퍼터 식각반응로 제작 및 특성에 관한 연구
이원석, 이진호, 염근영 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1995, Vol.4 No.2 210-216 (7 pages)
수 있는 가장 적합한 기술이라 사료되는 유도 결합형 플라즈마(Inductively Coupled Plasma : ICP)를 이용한 RF 스퍼터 식각 반응로를 제작하고 이에 대한 특성을 조사하였다. 유도용 주파수로서 13.56 MHz를 사용하였으며 유도결합을 일으키기 위해 3.5회의 나선형 평판형 코일을 사용함으로써 비교적 대면적에 균일한 고밀도 플라즈마를 얻을 수 있었다. 또한 기판에 독립적인 13.56MHz RF power를 가해 DC 바이어스를 인가함으로써 기판으로 입사하는 하전입자들의 에너지를 조절하여 기판에의 손상을 최소화하며 SiO2의 스퍼터 식각... -
RF 유도형 플라즈마 프로세스에 대한 분광학적 연구
장문국, 한상보, 박상현, Jang. Mun-Gug, Han. Sang-Bo, Park. Sang-Hyun 한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 10 Pages
한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 2011, Vol.25 No.11 103-112 (10 pages)
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비대칭 전극계에서의 1차원적 RF 플라즈마 모델링에 관한 연구
소순열, 임장섭, So. Soon-Youl, Lim. Jang-Seob 한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 7 Pages
한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 2004, Vol.18 No.5 35-41 (7 pages)
본 연구에서 사용된 방전 기체는 오염물의 제거 및 박막 표면 정제 등의 연구 분야에 응용되고 있는 질소 가스를 사용하였으며, 1차원 동심구 모델의 개발로 인하여, 접지 면적을 넓게 함에 따라 경방향으로의 플라즈마 분포가 중심축의 분포와 동일하다는 1차원적 가정이 적절하지 못하다는 Barnes 모델을 보완할 수 있었다. 일정한 인가 전압하에서는 입체각($omega$)의 증가에 따라 질소 플라즈마를 구성하는 각 입자의 수밀도 분포, 전계 및 포텐셜이 감소함을 볼 수 있었다. 그러나 면적비가 증가하면서 구동 전극에서의 각 입자들의... -
폴리이미드 기판 위에 RF 마그네트론 스퍼터링 공정으로 증착된 ZnO:Ga 박막의 특성
박승범, 김정연, 김병국, 임종엽, 여인환, 안상기, 권순용, 박재환, 임동건, Park. Seung-Beum, Kim. Jeong-Yeon, Kim. Byeong-Guk, Lim. Jong-Youb, Yeo. In-Hwan, Ahn. Sang-Ki, Kw 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 5 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2010, Vol.23 No.5 374-378 (5 pages)
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Ar 가스 압력과 RF 전력에 따른 유도결합형 플라즈마의 전기적 및 광학적 특성
최용성, 허인성, 이영환, 박대희 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 7 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2004, Vol.17 No.5 560-566 (7 pages)
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RF 플라즈마를 이용한 유기 EL 소자의 전극형성에 관한 연구
이은학 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 8 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2004, Vol.17 No.2 228-235 (8 pages)
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$C_{x}F_{y}$ Polymer Film Deposition in rf and dc $C_{7}F_{16}$ Vapor Plasmas
Sakai. Y., Akazawa. M., Sakai. Yosuke, Sugawara. H., Tabata. M., Lungu. C.P., Lungu. A.M. 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 6 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2001, Vol.2 No.1 1-6 (6 pages)
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rf PECVD법으로 증착된 DLC film의 광학적 성질
김문협, 송재진, 김성진, Kim. Moon-Hyup, Song. Jae-Jin, Kim. Seong-Jin 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2001, Vol.11 No.7 550-555 (6 pages)
rf PECVB법을 이용하여 붕규산 유리 기판 위에 diamond like carbon(DLC) 박막을 증착하였다. 메탄(CH$_4$)-수소(H$_2$) 혼합 가스를 전구체 가스로 사용하였다. DLC 박막의 형상, 구조 및 광학적 특성은 SEM, 라만 및 UV 스펙트럼으로 분석하였다. 증착 속도는 혼합 가스의 수소 농도에 따라 증가하다가, 혼합 가스 유량이 25 sccm 이상에서는 일정하게 되었다. UV스펙트럼으로 계산한 박막의 optical band gap은 증착 시간과 DC serf bias의 증가에 따라 감소하는 경향을 나타냈으나, 수소함량에 의해서는 거의 영향이 없었다. 박막의... -
RF 유도결합 열 플라즈마를 이용한 암모니아와 질소분위기에서 고순도 AlN 나노 분말의 합성
김경인, 최성철, 김진호, 황광택, 한규성, Kim. Kyung-In, Choi. Sung-Churl, Kim. Jin-Ho, Hwang. Kwang-Taek, Han. Kyu-Sung 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 7 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2014, Vol.51 No.3 201-207 (7 pages)
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RF 유도 열플라즈마를 이용한 유기 용매로 부터의 탄화규소 나노 분말 합성
고상민, 구상만, 김진호, 조우석, 황광택, Ko. Sang-Min, Koo. Sang-Man, Kim. Jin-Ho, Cho. Woo-Seok, Hwang. Kwang-Taek 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 5 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2012, Vol.49 No.6 523-527 (5 pages)
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RF 열플라즈마를 이용한 TEOS로 부터의 SiC 나노분말 합성
고상민, 구상만, 김진호, 김지호, 변명섭, 황광택, Ko. Sang-Min, Koo. Sang-Man, Kim. Jin-Ho, Kim. Ji-Ho, Byeon. Myeong-Seob, Hwang. Kwang-Taek 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 5 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2011, Vol.48 No.1 1-5 (5 pages)
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RF 마그네트론 스퍼터링 공정으로 PET 기판 위에 제조한 Ga-doped ZnO 투명전도막의 특성
김정연, 김병국, 이용구, 김재화, 우덕현, 권순용, 임동건, 박재환, Kim. Jeong-Yeon, Kim. Byeong-Guk, Lee. Yong-Koo, Kim. Jae-Hwa, Woo. Duck-Hyun, Kweon. Soon-Yong, Lim. 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 6 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2010, Vol.17 No.1 19-24 (6 pages)
전처리에 의한 PET 기판 위에 Ga이 도핑된 ZnO 투명전극 (GZO)의 특성변화를 고찰하였다. GZO 박막은 RF 마그네트론 스퍼터링 공정에 의해 합성하였으며 GZO 증착 이전에 PET 기판의 표면에너지를 높이고 GZO 박막과의 접촉특성을 향상시키기 위해 산소플라즈마 공정을 적용하였다. 산소 플라즈마 처리공정을 시행함에 따라 GZO 박막의 결정성과 전기적 특성이 향상하였다. RF 파워를 100 W로 하고, 플라즈마 처리시간을 600초로 하였을 때 GZO 박막의 최저 비저항 값인 $1.90{ imes}10^{-3}{Omega}-cm$의 양호한 특성을 확인되었다. -
$Ar^+$ RF 플라즈마 처리조건이 임베디드 PCB내 전극 Cu박막과 ALD $Al_2O_3$ 박막 사이의 계면파괴에너지에 미치는 영향
박성철, 이장희, 이정원, 이인형, 이승은, 송병익, 정율교, 박영배, Park. Sung-Cheol, Lee. Jang-Hee, Lee. Jung-Won, Lee. In-Hyung, Lee. Seung-Eun, Song. Byoung-Ikg, Chung 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 8 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2007, Vol.14 No.1 61-68 (8 pages)
빔 굽힘을 가정한 에너지 평형 해석을 통하여 계면파괴에너지를 구하였다. $Cu/Al_2O_3$의 계면파괴에너지(${Gamma}$)는 매우 약하여 측정할 수 없었으나, 접착력 향상층 Cr 박막을 삽입하여 $Cr/Al_2O_3$의 계면파괴에너지는 $10.8{pm}5.5g/mm$를 얻었다. $Al_2O_3$ 표면에 $0.123W/cm^2$ 의 power density로 2분간 $Ar^+$ RF 플라즈마 전처리를 하고 Cr박막을 삽입한 $Cr/Al_2O_3$ 계면파괴에너지는 $39.8{pm}3.2g/mm$으로 매우 크게 증가하였는데, 이는 $Ar^+$ RF 플라즈마 전처리에 따른 mechanical interlocking효과와 Cr-O 화학결합... -
Effects of Plasma Treatment on Mechanical Properties of Jute Fibers and Their Composites with Polypropylene
허양일, 멘사비스마르크, 김성진, 이홍기, 나창운, Huh. Yang Il, Bismark. Mensah, Kim. Sungjin, Lee. Hong Ki, Nah. Changwoon 한국고무학회 Elastomers and composites 8 Pages
한국고무학회 Elastomers and composites 2012, Vol.47 No.4 310-317 (8 pages)
계면접착력 향상을 위해 실린더형 RF 플라즈마 발생기를 이용하여 Jute fiber의 표면을 아르곤가스로 처리하였고 최적 처리조건을 설정하였다. 플라즈마 강도, 가스압력, 및 처리시간을 변경한 후 이러한 인자들이 황마섬유 표면모폴로지, 섬유 인장강도, 및 폴리프로필렌과의 모델복합체에서 계면접착강도에 미치는 영향을 조사하였다. 플라즈마 처리인자에 따라 황마섬유의 표면은 거칠어졌다. 가스압력의 영향은 처리시간 및 플라즈마 강도의 영향보다 다소 낮게 나타났다. 플라즈마 강도와 시간에 따라 황마섬유의 강도는 약 25%... -
RF-PECVD법에 의한 투명 다이아몬드상 탄소 박막 합성
김태규, 신영호, 조현, 김진곤, Kim. Tae-Gyu, Shin. Yeong-Ho, Cho. Hyun, Kim. Jin-Kon 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 4 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 2012, Vol.22 No.4 190-193 (4 pages)
RF-PECVD(radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition)법을 이용하여 $CH_4+SiH_4+Ar$ 혼합 가스로부터 유리 기판 위에 투명 다이아몬드상 카본(diamond-like carbon, DLC)을 합성하였다. 공정압력과 rf-파워, $CH_4/SiH_4/Ar$ 혼합비, 그리고 증착 시간은 각각 0.1 torr, 100W, 20 : 1 : 1, 20분이었다. DLC가 증착된 유리와 증착되지 않은 유리의 투과도를 가시광선 영역에서 비교하였고, DLC가 증착된 유리의 경도, 표면 조도와 두께를 nanoindenter와 AFM으로 측정하였다. DLC가 증착된 유리의 투과도는 증착되지... -
Inductively Coupled Plasma 법을 이용한 희토류원소의 분석에 관한 연구
최범석, 김선태, 김영만, 이종욱, Choi. Beom Suk, Kim. Sun Tae, Kim. Young Man, Lee. Chong Wook 대한화학회 대한화학회지 8 Pages
대한화학회 대한화학회지 1985, Vol.29 No.4 382-389 (8 pages)
Inductively coupled plasma(ICP)법을 이용하여 희토류원소들을 정량분석할 때 플라스마 작동 조건이 미치는 영향에 관하여 연구하였다. 플라스마 작동시 시료운반기체의 사용량을 증가시키면 희토류원소 스펙트럼선들의 검출한계는 낮아지나 이온화 방해 영향이 증가되었다. RF power의 변화는 이온화 방해에는 큰 영향을 미치지 않지만 바탕세기에 대한 스펙트럼선 세기의 비율은 RF power가 감소될수록 증가되었다. 플라스마내에서 이온화 방해 영향이 작은 위치는 스펙트럼선의 spacial profile이 최대가 되는 부분보다 약간 높은... -
Etch Rate Dependence of Differently Doped Poly-Si Films on the Plasma Parameters
박성호, 김윤태, 김진섭, 김보우, 마동성, Park. Sung-Ho, Kim. Youn-Tae, Kim. Jin-Sup, Kim. Bo-Woo, Ma. Dong-Sung 대한전자공학회 전자공학회논문지 8 Pages
대한전자공학회 전자공학회논문지 1988, Vol.25 No.11 1342-1349 (8 pages)
플리즈마 변수로서 가스조성과 압력 및 RF 전력이 인 및 붕소가 각각 다른 양으로 주입된 다결정 실리콘의 식각율 변화에 미치는 영향을 고찰하였다. $POCl_3$에 의해 인이 주입된 경우, 염소조성보다 불소조성이 많은 영역, 즉 $Cl_2$와 $SF_4$의 비가 17대 33일 때, 가장 큰 비등방성과 가장 작은 선폭손실을 달성하였다. 플라즈마 조건에 관계없이 주입된 불순물 농도의 증가에 다라, 인이 주입된 경우는 식각율이 증가하였고, 붕소가 주입된 경우는 식각율이 반대로 감소하였다. 또한, 급속 열처리에 의한 활성화 시간의 함수로서... -
RF 플라즈마 및 전기장의 흑색종 (G361 melanoma) 세포에 대한 사멸 효과
손채화, 김규천, 이해준, Shon. Chae-Hwa, Kim. Gyoo-Cheon, Lee. Hae-June 대한전기학회 전기학회논문지= The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers 6 Pages
대한전기학회 전기학회논문지= The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers 2007, Vol.56 No.11 1972-1977 (6 pages)
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Ar 가스 압력과 RF 전력변화에 따른 유도결합형ㆍ플라즈마 E-H모드 변환의 광학적 특성
허인성, 조주웅, 이영환, 김광수, 최용성, 박대희 대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 4 Pages
대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 2004, Vol.53 No.1 20-23 (4 pages)
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RF 헬리콘 플라즈마를 이용한 회학기상 증착기의 제작
신재균, 현준원, 박상규 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 6 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 1998, Vol.11 No.8 607-612 (6 pages)
