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DC magnetron sputtering 방법으로 형성한 Indium-Tin-Oxide(ITO) 박막의 특성 연구
안명환, An. Myung-Hwan 한국해양정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 6 Pages
한국해양정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 2006, Vol.10 No.3 473-478 (6 pages)
DC 마그네트론 스퍼터링 방법으로 ITO 박막을 형성하였다. 박막 형성 시 스퍼터 전압을 변화시켜 음이온에 의한 손상을 최소화하였으며, 또한 기판온도와 산소유입량을 변화시켜 비저항 $1.6 imes10^{-4}{Omega}cm$, 광투과도 90% 이상의 값을 갖는 양질의 박막을 형성 할 수 있었다. 박막 형성 시 $O_2$ 가스의 유량이 4sccm 이상으로 산소공급이 과다할 경우는 ITO 박막의 비저항이 증가하고, 광 투과도가 포화됨을 알 수 있었다. -
Pulsed Magnetron Sputtering Deposit ion of DLC Films Part I : Low-Voltage Bias-Assisted Deposition
Oskomov. Konstantin V., Chun. Hui-Gon, You. Yong-Zoo, Lee. Jing-Hyuk, Kim. Kwang-Bok, Cho. Tong-Yul, Sochogov. Nikolay S., Zakharov. Al 한국표면공학회 한국표면공학회지 7 Pages
한국표면공학회 한국표면공학회지 2003, Vol.36 No.1 27-33 (7 pages)
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Effect of Ga-doping on the properties of ZnO films grown on glass substrate at room temperature by radio frequency magnetron sputtering
김금채, 이지수, 이수경, 김도현, 이성희, 문주호, 전민현, Kim. G.C., Lee. J.S., Lee. S.K., Kim. D.H., Lee. S.H., Moon. J.H., Jeon. M.H. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2008, Vol.17 No.1 40-45 (6 pages)
유리기판 위에 약 500 nm 의 두께로 성장된 ZnO층의 구조적, 광학적, 전기적 성질에 미치는 갈륨도핑의 영향에 대하여 연구 하였다. 다결정 ZnO 와 GZO 층은 상온에서 radio frequency magnetron sputtering 법을 사용하여 성장되었다. 투과전자현미경 (TEM)과 x-ray 회절분석 (XRD)에 의하면, 갈륨이 도핑된 ZnO 박막의 결정성은 ZnO에 비하여 향상되었고 (002)방향을 따라 우선성장 되었음이 발견되었다. GZO 박막의 투과도는 가시광 영역에서 ZnO 박막에 비해 약 10% 정도 향상된 것으로 나타났다. PL 분석에 따르면, NBE emission... -
Low Temperature Deposition of the $In_2O_3-SnO_2$, $SnO_2$ and $SiO_2$ on the Plastic Substrate by DC Magnetron Sputtering
Kim. Jin-Yeol, Kim. Eung-Ryeol, Lee. Jae-Ho, Kim. Soon-Sik 한국정보디스플레이학회 Journal of information display 5 Pages
한국정보디스플레이학회 Journal of information display 2001, Vol.2 No.1 38-42 (5 pages)
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Implementation of High Carrier Mobility in Al-N Codoped p-Type ZnO Thin Films Fabricated by Direct Current Magnetron Sputtering with ZnO:Al2O3 Ceramic Target
Jin. Hujie, Xu. Bing, Park. Choon-Bae 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.4 169-173 (5 pages)
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The Electrical and Optical Properties of Al-Doped ZnO Films Sputtered in an Ar:H2 Gas Radio Frequency Magnetron Sputtering System
Hwang. Seung-Taek, Park. Choon-Bae 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2010, Vol.11 No.2 81-84 (4 pages)
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PL Property of Al-N Codoped p-type ZnO Thin Films Fabricated by DC Magnetron Sputtering
Liu. Yan-Yan, Jin. Hu-Jie, Park. Choon-Bae, Hoang. Geun-C. 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2009, Vol.10 No.3 89-92 (4 pages)
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Analysis of Photoluminescence for N-doped and undoped p-type ZnO Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering Method
Liu. Yan-Yan, Jin. Hu-Jie, Park. Choon-Bae, Hoang. Geun C. 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2009, Vol.10 No.1 24-27 (4 pages)
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Effect of Annealing on a-Si:H Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering
김도윤, 김인수, 최세영, Kim. Do-Yun, Kim. In-Soo, Choi. Se-Young 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2009, Vol.19 No.2 102-107 (6 pages)
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Magnetron sputtering 법으로 제조된 Al-1%Cu/Tungsten Nitride 다층 박막
이기선, 김장현, 서수정, 김남철, Lee. Gi-Seon, Kim. Jang-Hyeon, Seo. Su-Jeong, Kim. Nam-Cheol 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2000, Vol.10 No.9 624-628 (5 pages)
표면 탄성과 디바이스의 전극재료로 사용되는 Al-%Cu(4000$AA$)/tungsten nitride 박막을 magnetron sputtering 법으로 제조하고 전기저항을 평가한 비정질상의 tungsten nitride 박막을 제조할 수 있었고, 비정질 형성을 위해 질소비(R =$N_2$/(Ar+$N_2$)가 10~40% 정도 필요하다. Tungsten nitride 박막의 잔류응력은 비정질이 형성되면서 급격히 감소되었다. 이러한 비정질 박막위에 Al-1%Cu 합금막이 형성되었다. 다층막은 453K에서 4시간 동안 열처리함으로써 $3.6{mu}{Omega}-cm$의 저항을 나타냈는데, 이는 박막내 결정립 성장과... -
DC Reactive Magnetron Sputtering법에 의한 Ti-Al-V-N 박막의 성장거동
손용운, 정인화, 이영기, Sohn. Yong-Un, Chung. In-Wha, Lee. Young-Ki 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1999, Vol.9 No.7 688-694 (7 pages)
Ti-6Al-4V 합금을 타겟트로 사용하여 유리 기판위에 dc reactive magnetron sputtering법으로 $N_2$/(Ar+N_2)$ 비, 기전력 및 시간등의 여러 가지 증착 조건에서 Ti-6Al-4V-N 필름을 증착하였고, 각각의 증착 조건에 따른 결정구조 및 우선방위 거동은 X-선 회절장치를 사용하여 조사하였다. Ti-6Al-4V-N 필름은 본질적으로 fcc 결정구조의 $delta$-TiN에 Al과 V이 결함으로서 고용된 변형된 형태의 $delta$-TiN구조이고, TiN의 격자상수(4.240 )보다 작은 값을 나타내었는데, 이는 Ti(1.47 )에 비하여 상대적으로 원자반경이 작은... -
RF Magnetron Sputtering 으로 제작된 Co-based MnSbPt 합금박막의 자기광학적 성질
윤현묵, 홍연기, 이경재, 김종오, Yun. Hyeon-Muk, Hong. Yeon-Gi, Lee. Gyeong-Jae, Kim. Jong-O 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1998, Vol.8 No.3 195-199 (5 pages)
R.F. Magnetron Sputtering 법으로 Co를 base로 MnSbPt 합금박막의 최적 열처리 조건은 $300^{circ}C$-4시간 이었으나, 종래의 MnSbPt 합금박막의 경우와 같이 수직자화막은 얻을 수 없었다. 보자력은 Co의 두께가 $250AA$에서 최대를 나타냈으나 약 500 Oe이하로 실용적 측면에서 불충분 하였다. 진공중에서 $300^{circ}C$ 4시간 열처리한 합금박막의 경우, 700nm의 입사파장에서 약 $0.78^{circ}$에 이르는 Kerr 회전각을 보이므로 고보자력을 지닌 수직자화막을 제조할 수 있다면 우수한 차세대 고밀도 자기 기록매체로서 유망하다. -
RF Magnetron Sputtering에 의한 금속간화합물 TiAI 모재위의 AI-21Ti-23Cr 고온내산화코팅
박상욱, 박정용, 이호년, 오명훈, 위당문, Park. Sang-Uk, Park. Jeong-Yong, Lee. Ho-Nyeon, O. Myeong-Hun, Wi. Dang-Mun 한국재료학회 한국재료학회지 10 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1996, Vol.6 No.7 742-751 (10 pages)
Ti-48AI(at.%) 모재위에 RF magnetron sputtering을 이용하여 AI-21Ti-23Cr(at.%) 조성의 박막을 코팅하였다. RF power 200W, 증착압력 0.8Pa, 증착온도 573k에서 증착된 시편의 가장 우수한 고온재산화성을 나타내었다. 573K에서 증착된 AI-21Ti-23Cr 코팅층은 증착시에는 비정질을 형성하나 산화시험동안 결정화가 진행되며, 표면에는 치밀한 ${Al}_{2}{O}_{3}$층이 형성되었다. 573K에서 코팅된 시편에 대하여 1073K, 1173K 및 1273K에서 100시간동안 등온산화시험을 실시하였다. 무게증량곡선은 모든 온도에서 parabolic law를 따르는... -
DC Magnetron Sputtering 방법으로 증착한 Fe-N 박막의 구조와 자기적 성질
이종화, 이원종 한국자기학회 韓國磁氣學會誌 7 Pages
한국자기학회 韓國磁氣學會誌 1993, Vol.3 No.2 87-93 (7 pages)
질화철(Fe-N) 박막을 DC magenetron sputtering 방법으로 증착하였다. 스퍼터링 기체중의 질소유량비와 스퍼터링 power가 박막의 구조와 조성, 자기적 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 증착 박막중의 질소원자 함유량은 박막의 구조, 생성상 및 자기적 특성을 결정짓는 지배적인 인자이다. 낮 은 질소 유량비에서 증착하였을 경우 박막은 질소 침입형 $alpha$-Fe 결정구조를 갖으며, 질소원자 함유량에 비례하여 격자변형은 증가하고 포화자화값은 감소하였다. 격자변형이 어느 정도 심하게 일어 나면 주상정으로의 성장이 억제되어... -
Microstructures of HAp and HAp-Ag Composite Coating Layer Prepared by RS Magnetron Sputtering
Lee. Hee-Jung, Oh. Ik-Hyun, Park. Sang-Shik, Lee. Byong-Taek 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 6 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2004, Vol.41 No.4 328-333 (6 pages)
RF magnetron sputtering법에 의해 단상의 하이드록시아파타이트와 하이드록시아파타이트은 복합코팅층을 ZrO$_2$와 Si 웨이퍼 기판에 코팅하였다. 이들 코팅층들의 두께 0.7∼1.0$mu extrm{m}$ 범위였으며 또한 거칠기(roughness)는 3∼4nm였다. 열처리된 HAp 코팅층은 나노크기의 결정들로 구성되어 있었으며, 반면 Ag가 함유된 복합코팅층의 경우 결정질과 비결정질이 혼재되어 있었다. 열처리 전 HAp 코팅층의 Ca/P비는 1.9였고, Ag의 함량이 증가함에 따라 비는 감소하는 경향을 나타내었다. 또한 Ag 함량이 증가함에 따라... -
R.F. Magnetron Sputtering을 이용한 리튬이차전지 부극용 Sn1-xSixO2의 제조 및 특성
이상헌, 박건태, 손영국, Lee. Sang-Heon, Park. Keun-Tae, Son. Young-Guk 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 7 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2002, Vol.39 No.4 394-400 (7 pages)
리튬 이차전지용 부극재료로 미량의 실리콘이 첨가된 주석산화물 박막을 R.F. magnetron sputtering법을 이용하여 제조하였다. 실리콘의 첨가로 인해 주석의 산화상태를 감소시켜서 첫 번째 충방전 동안 비가역성을 감소시키는 전기 화학적 결과를 얻을 수 있었다. 주석 산화물 박막의 결정 배향성은 기판온도가 올라감에 따라서 (110),(101),(211) 면들이 성장하였다. 합성된 박막은 기판온도가 $300^{circ}C$이고 $Ar:O_2$의 비가 7:3일때, 700mAh/g의 에너지 밀도를 가지며 가장 좋은 가역성능을 보여주었다. -
RF Magnetron sputtering을 이용한 ${Ce_{1-x}}{RE_x}{O_{2-y}}$ 박막성장
주성민, 김철진, 박병규 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 7 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2000, Vol.37 No.10 1014-1020 (7 pages)
RF 마크네트론 스퍼터법으로 Ce의 일부를 희토류 원소로 치환한 Ce$_{1-x}$RE$_{x}$O$_{2-y}$(0.1$leq$x$leq$0.4, RE=Y, Nd) 박막을 Si(111), $Al_2$O$_3$(1012) 기판 위에 1450~1$600^{circ}C$로 소결한 target을 이용하여 성장시켰다. Ce$_{1-x}$RE$_{x}$O$_{2-y}$ 박막의 성장시 기판온도 및 증착시간 등을 변화시켜 성장시켰으며, 성장된 박막의 특성분석은 XRD, SEM, TEM으로 행하였다. 증착된 박막의 방향성 및 결정성장 거동은 증착온도 및 시간에 따라 차이를 보였다. Si(111) 기판 위에 증착된... -
D.C Magnetron Reactive Sputtering 법으로 증착한 <tex>$PbTiO_3$</tex> 박막의 열처리에 따른 c-축 배향성의 변화
이승현, 권순용, 최한메, 최시경 한국세라믹학회 요업학회지 7 Pages
한국세라믹학회 요업학회지 1996, Vol.33 No.7 802-808 (7 pages)
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Rf Magnetron Sputtering 방법으로 제조된 $Ba_{1-x}Sr_xTiO_3$ 박막의 구조적 특성에 대한 연구
김태송, 오명환, 김종희 한국세라믹학회 요업학회지 8 Pages
한국세라믹학회 요업학회지 1993, Vol.30 No.6 441-448 (8 pages)
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RF Magnetron Sputtering에 의해 증착된 Ni-Zn-Cu Ferrite 박막의 물성에 미치는 기판온도의 영향
공선식, 조해석, 김형준, 김경용 한국세라믹학회 요업학회지 8 Pages
한국세라믹학회 요업학회지 1992, Vol.29 No.5 383-390 (8 pages)
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R-F magnetron sputtering 법으로 제조된 SrBi$_2$Ta$_2$O$_9$ 강유전성 박막의 미세구조 특성 및 전기적 특성
김효영, 박상준, 장건익 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 11 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 1999, Vol.6 No.2 51-61 (11 pages)
R.f. magnetron sputtering법에 의해 $SrBi_2Ta_2O_9$ 박막을 $Pt/SiO_2$/Si p-tyPp (100) 기판 위에 제조하였다. 제조된 박막을 $800^{circ}C$에서 열처리한 후 증착 조건에 따라 미세구조와 전기적 특성을 측정하였다. $800^{circ}C$에서 열처리된 박막은 (006), (111), (200) 및 이차상인 BiPt 피크가 XRD 분석 결과 나타났으며, 가스 압력의 감소와 기판 온도의 증가에 따라 결정입자는 성장하였다. 50mtorr, $100^{circ}C$에서 증착 후 $800^{circ}C$에서 열처리한 박막의 두께는 200nm이었다. 이 박막의 잔류분극과 항전계 값은... -
RF-DC magnetron co-sputtering법에 의한 p-ZnO 박막의 성장
강승민, Kang. Seung Min 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 4 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 2004, Vol.14 No.6 277-280 (4 pages)
p형 ZnO 에피 박막을 사파이어 기판의 (0001)면 상에 RF-DC magnet co-sputtering 법으로 성장시켰다. 약 120nm두께의 단결정상 박막을 성공적으로 얻어내었다. p형 ZnO를 만들기 위해서 Al 금속 타켓을 이용하여 DC 스퍼터링으로 $400^{circ}C$와 $600^{circ}C$에서 ZnO를 rf magnetron sputtering으로 증착하고, 동시에 Al의 doping을 행하였으며, 성장된 박막의 결정성과 광특성에 대하여 고찰하였다. -
Deposition of Cu-Ni films by Magnetron Co-Sputtering and Effects of Target Configurations on Film Properties
Seo. Soo-Hyung, Park. Chang-Kyun, Kim. Young-Ho, Park. Jin-Seok 대한전기학회 KIEE international transactions on electrophysics and applications 5 Pages
대한전기학회 KIEE international transactions on electrophysics and applications 2003, No.0 23-27 (5 pages)
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Synthesis of TCO-free Dye-sensitized Solar Cells with Nanoporous Ti Electrodes Using RF Magnetron Sputtering Technology
Kim. Doo-Hwan, Heo. Jong-Hyun, Kwak. Dong-Joo, Sung. Youl-Moon 대한전기학회 Journal of electrical engineering & technology 5 Pages
대한전기학회 Journal of electrical engineering & technology 2010, Vol.5 No.1 146-150 (5 pages)
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Growth of AlN Thin Film on Sapphire Substrates and ZnO Templates by RF-magnetron Sputtering
나현석, Na. Hyun-Seok 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2010, Vol.19 No.1 58-65 (8 pages)
먼저 RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 사파이어 기판 위에 AlN 박막을 증착하였다. AlN 공급원으로는 분말소결된 AlN 타겟을 적용하였다. 플라즈마 파워를 50에서 110 W로 증가시켰을 때 AlN 층의 두께는 선형적으로 증가하였다. 그러나 동작압력을 3에서 10 mTorr로 증가시켰을 때는 동작기체인 아르곤 양이 증가함에 따라 AlN 타겟으로부터 스퍼터링되어 나온 AlN 입자들의 평균자유행정의 거리가 감소하기 때문에 AlN 층의 두께는 약간 감소하였다. 질소 기체를 아르곤과 섞어주었을 때는 질소의 낮은 스퍼터링 효율에 의해서... -
RF-Magnetron Sputtering에 의하여 ITO 유리 위에 성장된 $SrTiO_3$박막의 열처리 특성
김화민, 이병로 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2001, Vol.10 No.4 416-423 (8 pages)
$SrTiO_3$ 박막의 미세구조와 광학적 및 유전적 특성에 대한 열처리 효과들이 조사되었다. $SrTiO_3$ 박막은 RF-마그네트론 스퍼터링 방법에 의하여 상온의 ITO유리 위에 성장되었으며, 성장된 박막들은 산소 분위기의 여러 온도에서 열처리되었다. X선 회절 패턴을 분석한 결과 상온에서 제작된 as-deposited박막은 비정질 상태로 나타났으며, 450-$600^{circ}C$에서 열처리한 시료에서는 pyrochlore 구조의 결정 피크들이 우세하게 관측되었다. 그리고 $650^{circ}C$에서 열처리한 시료에서는 perovskite 구조가 우세하게 나타나는 것이...